Atomic nitrogen concentration in afterglow measured by EPR and NO titration methods
KUDRLE, Vít, Antonín TÁLSKÝ, Petr VAŠINA, Vlastimil KŘÁPEK a Jan JANČA. Atomic nitrogen concentration in afterglow measured by EPR and NO titration methods. In Proceedings of XXVth ICPIG. Nagoya: ICPIG. s. 231-232. 2001. |
Další formáty:
BibTeX
LaTeX
RIS
|
Základní údaje | |
---|---|
Originální název | Atomic nitrogen concentration in afterglow measured by EPR and NO titration methods |
Autoři | KUDRLE, Vít (203 Česká republika, garant), Antonín TÁLSKÝ (203 Česká republika), Petr VAŠINA (203 Česká republika), Vlastimil KŘÁPEK (203 Česká republika) a Jan JANČA (203 Česká republika). |
Vydání | Nagoya, Proceedings of XXVth ICPIG, s. 231-232, 2001. |
Nakladatel | ICPIG |
Další údaje | |
---|---|
Originální jazyk | angličtina |
Typ výsledku | Stať ve sborníku |
Obor | 10305 Fluids and plasma physics |
Stát vydavatele | Japonsko |
Utajení | není předmětem státního či obchodního tajemství |
Kód RIV | RIV/00216224:14330/01:00004332 |
Organizační jednotka | Fakulta informatiky |
Příznaky | Mezinárodní význam |
Změnil | Změnil: prof. Mgr. Vít Kudrle, Ph.D., učo 2560. Změněno: 6. 6. 2008 13:30. |
Anotace |
---|
Atomic nitrogen concentration in afterglow measured by EPR and NO titration methods |
Návaznosti | |
---|---|
GP202/01/P106, projekt VaV | Název: Studium plazmochemických procesů pomocí mikrovlnné a optické spektroskopie |
Investor: Grantová agentura ČR, Studium plazmochemických procesů pomocí mikrovlnné a optické spektroskopie | |
IAA0061001, projekt VaV | Název: Zvukové záznamy českých nářečí (jejich archivace a další využití) 2 |
MSM 143100003, záměr | Název: Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek |
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek | |
OC 527.20, projekt VaV | Název: Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů |
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů |
VytisknoutZobrazeno: 28. 3. 2024 16:38