Detailed Information on Publication Record
2005
Thermal stability of SiOxCyHz films prepared by PECVD
KUČEROVÁ, Zuzana, Vilma BURŠÍKOVÁ, Lenka ZAJÍČKOVÁ, Jana FRANCLOVÁ, Vratislav PEŘINA et. al.Basic information
Original name
Thermal stability of SiOxCyHz films prepared by PECVD
Name in Czech
termální stabilita SiOxCyHz vrstev připravených metodou PECVD
Authors
KUČEROVÁ, Zuzana (203 Czech Republic), Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Czech Republic, guarantor), Lenka ZAJÍČKOVÁ (203 Czech Republic), Jana FRANCLOVÁ (203 Czech Republic) and Vratislav PEŘINA (203 Czech Republic)
Edition
Chemické listy, Praha, Česká společnost chemická, 2005, 0009-2770
Other information
Language
English
Type of outcome
Článek v odborném periodiku
Field of Study
10305 Fluids and plasma physics
Country of publisher
Czech Republic
Confidentiality degree
není předmětem státního či obchodního tajemství
Impact factor
Impact factor: 0.445
RIV identification code
RIV/00216224:14310/05:00013953
Organization unit
Faculty of Science
Keywords in English
thermal stability; TDS; PECVD; FTIR; RBSW; ERDA
Změněno: 16/11/2006 21:25, Mgr. Jana Meixnerová, Ph.D.
V originále
Thermal stability of SiOxCyHz films prepared using PECVD was studied by TDS, FTIR, RBS, ERDA and spectroscopic elipsometry.
In Czech
Termální stabilta vrstev SiOxCyHz připravovaných metodou PECVD byla studována pomocí TDS, FTIR, RBS, ERDA and spectroskopické elipsometrie.
Links
| MSM0021622411, plan (intention) |
|