Detailed Information on Publication Record
2005
Měření mechanického napětí v tenkých vrstvách pomocí kombinované optické metody
OHLÍDAL, Ivan, Miloslav OHLÍDAL, Daniel FRANTA, Vlastimil ČUDEK, Vilma BURŠÍKOVÁ et. al.Basic information
Original name
Měření mechanického napětí v tenkých vrstvách pomocí kombinované optické metody
Name (in English)
Measurement of mechanical stress in thin films using combined optical method
Authors
OHLÍDAL, Ivan (203 Czech Republic, guarantor), Miloslav OHLÍDAL (203 Czech Republic), Daniel FRANTA (203 Czech Republic), Vlastimil ČUDEK (203 Czech Republic), Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Czech Republic) and Martin ŠILER (203 Czech Republic)
Edition
Jemná mechanika a optika, Přerov, Physical Institute, ASCR, 2005, 0447-6441
Other information
Language
Czech
Type of outcome
Článek v odborném periodiku
Field of Study
10302 Condensed matter physics
Country of publisher
Czech Republic
Confidentiality degree
není předmětem státního či obchodního tajemství
References:
RIV identification code
RIV/00216224:14310/05:00012755
Organization unit
Faculty of Science
Keywords in English
DLC thin films; mechanical stress; double-beam interferometry
Změněno: 7/2/2006 20:36, Mgr. Daniel Franta, Ph.D.
V originále
V tomto článku je popsána optická metoda umožňující měření mechanického napětí v tenkých vrstvách. Tato metoda je založena na určování poloměrů zakřivení deformovaných podložek, která vznikají v důsledku existence napětí ve vrstvách vytvořených na těchto podložkách. Hodnoty napětí jsou počítány pomocí modifikované Stoneyovy rovnice. Hodnoty tlouštěk tenkých vrstev, které jsou rovněž potřebné pro výpočet těchto napětí, jsou určeny pomocí metody založené na interpretaci experimentálních dat získaných v rámci víceúhlové spektroskopické elipsometrie a spektroskopické reflektometrie. Tato kombinovaná optická metoda je využita pro určení hodnot mechanických napětí ve vrstvách DLC (diamond-like carbon) vytvořených na podložkách z monokrystalu křemíku, které obsahují příměsy Si a O. V práci je také studována závislost hodnot napětí v těchto vrstvách na hodnotách poměru průtoků hexamethyldisiloxanu (HMDSO) a metanu.
In English
In this paper an optical method enabling us to measure the mechanical stress in thin films is decribed. This method is based on determination of the curvature radii of the substrates curved originating in consequence of the existence of the stresses inside the films created onto these substrates. The stess values are calculated using the modified Stoney formula. The thin film thicknesses needed for calculating the stresses are determined by means of the method based on interpretation of the experimental data obtained using multiple angle spectroscopic ellipsometry and spectroscopic reflectometry. This combined optical method is utilized for determination of the mechanical stresses in the DLC (diamond-like carbon) films prepared onto the substrates consisting of silicon single crystal containing impurities Si and O. In the paper the dependence of the stress inside these films on the values of ratio of the flow rates of hexamethyldisoloxane (HMDSO) and methane.
Links
| GA101/04/2131, research and development project |
| ||
| MSM0021622411, plan (intention) |
|