Detailed Information on Publication Record
2005
Actinometry for understanding PECVD of thin films from O2/HMDSO plasmas
ŠMÍD, Radek, Lenka ZAJÍČKOVÁ and Vilma BURŠÍKOVÁBasic information
Original name
Actinometry for understanding PECVD of thin films from O2/HMDSO plasmas
Name in Czech
Aktinometrie pro porozumění plazmochemické depozice tenkých vrstev z O2/HMDSO plazmatu
Authors
ŠMÍD, Radek (203 Czech Republic, guarantor), Lenka ZAJÍČKOVÁ (203 Czech Republic) and Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Czech Republic)
Edition
1. vyd. Eindhoven, Nizozemí, Proceedings of the XXVII ICPIG, p. 297-300, 2005
Publisher
Eindhoven University of Technology, Nizozemí
Other information
Language
English
Type of outcome
Stať ve sborníku
Field of Study
10305 Fluids and plasma physics
Country of publisher
Netherlands
Confidentiality degree
není předmětem státního či obchodního tajemství
References:
RIV identification code
RIV/00216224:14310/05:00014212
Organization unit
Faculty of Science
ISBN
90-386-2231-7
Keywords in English
actinometry; HMDSO; optical emission spectroscopy
Tags
International impact
Změněno: 9/1/2008 11:11, doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D.
V originále
We applied actinometry for the calculation of dissociation degree in oxygen CCP discharges used for the deposition from O2/HMDSO plasmas. Dissociation degree exhibited a slight increase with increasing r.f. power and maximum of 20% for 5 Pa of oxygen. This relatively high value was not enough for deposition of SiO2-like films because the HMDSO percentage in the feed was too high at this low oxygen partial pressure. Rapid decrease of dissociation degree to 2-4% for higher oxygen flow rates, i.e. higher pressures resulted in still insufficient oxidation of film precursors.
In Czech
Použili jsme aktinometrii pro odhad disociačního koeficientu kyslíku v kapacitně vázaných výbojích používaných při depozicích z 02/HMDSO. Disociační stupeň v čistém kyslíku rostl s rostoucím výkonem a vykazoval maximum 20% při tlaku 5 Pa. Přesto tento disociační stupeň nebyl dostatečně vysoký, aby bylo možné vytvářet vrstvy podobné SiO2, protože při 5 Pa bylo stále ještě velké množství HMDSO ve směsi. Pokles disociačního stupně na 2-4% při vyšších průtocích kyslíku, tedy i tlacích, měl za následek nedostatečnou oxidaci vrstev rostoucích ze směsi obsahující větší procento 02.
Links
| MSM0021622411, plan (intention) |
| ||
| 1K05025, research and development project |
|