OHLÍDAL, Ivan, Miloslav OHLÍDAL, Daniel FRANTA, Vlastimil ČUDEK, Vilma BURŠÍKOVÁ, Petr KLAPETEK and Kateřina PÁLENÍKOVÁ. Influence of technological conditions on mechanical stresses inside diamond-like carbon films. Diamond and Related Materials. New York: Elsevier Science S.A., 2005, vol. 14, 11-12, p. 1835-1838. ISSN 0925-9635.
Other formats:   BibTeX LaTeX RIS
Basic information
Original name Influence of technological conditions on mechanical stresses inside diamond-like carbon films
Name in Czech Vliv technologických podmínek na mechanické pnutí v diamantu podobných vrstvách
Authors OHLÍDAL, Ivan (203 Czech Republic, guarantor), Miloslav OHLÍDAL (203 Czech Republic), Daniel FRANTA (203 Czech Republic), Vlastimil ČUDEK (203 Czech Republic), Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Czech Republic), Petr KLAPETEK (203 Czech Republic) and Kateřina PÁLENÍKOVÁ (203 Czech Republic).
Edition Diamond and Related Materials, New York, Elsevier Science S.A. 2005, 0925-9635.
Other information
Original language English
Type of outcome Article in a journal
Field of Study 10302 Condensed matter physics
Country of publisher United States of America
Confidentiality degree is not subject to a state or trade secret
WWW URL
Impact factor Impact factor: 1.988
RIV identification code RIV/00216224:14310/05:00014248
Organization unit Faculty of Science
UT WoS 000233983600022
Keywords in English intrisic stress; DLC; PECVD
Tags DLC, intrisic stress, PECVD
Tags International impact, Reviewed
Changed by Changed by: doc. RNDr. Vilma Buršíková, Ph.D., učo 2418. Changed: 8/2/2008 19:27.
Abstract
In this paper the influences of the technological conditions, i.e. the influences of the hydrogen flow rate and deposition time, on the values of the intrinsic mechanical stresses inside the diamond-like carbon (DLC) thin films prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition onto silicon substrates are studied. These stresses are measured by two-beam interferometry and optical profilometry based on chromatic aberration through the measurements of deformations of the silicon substrates originating in consequence of the film stresses. It is shown that the influence of the deposition time (i.e. film thickness) on the film stress is relatively slight in contrast to the influence of the hydrogen flow rate on this quantity. It is namely shown that the film stresses are influenced by the hydrogen flow rate values in a pronounced way within the interval of interest, i.e. within the interval 1-7 sccm. Moreover, it is shown that the method of optical profilometry used can be competitive to the method of two-beam interferometry from the practical point of view.
Abstract (in Czech)
V tomto článku jsou studovány vlivy technologických podmínek, tj. vlivy průtoku vodíku a doby deposice, na hodnoty vnitřního mechanického napětí uvnitř diamantu podobných uhlíkových (DLC) tenkých vrstev připravených plasmaticky podporovanou chemickou deposicí v parách na podložky tvořené monokrystalickým křemíkem. Toto napětí je měřeno pomocí dvoupaprskové interferometrie a optické profilometrie založené na chromatické aberaci prostřednictvím měření deformace podložek křemíku vznikající v důsledku napětí ve vrstvách. Je ukázáno, že vliv času deposice (tj. tloušťky) na napětí ve vrstvách je je relativně slabý na rozdíl od od vlivu průtoku vodíku. Je totiž ukázáno, že napětí ve vrstvách je ovlivněno průtokem vodíku výrazným způsobem v rámci intervalu, který nás zajímá, tj. v rámci intervalu 1-7 sccm. Navíc je ukázáno, že použitá metoda optické profilometrie může být konkurenční metodou pro metodu dvoupaprskové interferometrie z praktického hlediska.
Links
MSM0021622411, plan (intention)Name: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministry of Education, Youth and Sports of the CR, Study and application of plasma chemical reactions in non-isothermic low temperature plasma and its interaction with solid surface
PrintDisplayed: 31/7/2024 08:26