Detailed Information on Publication Record
2005
Plasma enhanced CVD of hard DLC/SiOx coatings from methane and hexamethyldisiloxane
ZAJÍČKOVÁ, Lenka, Vilma BURŠÍKOVÁ, Miroslav VALTR, Vratislav PEŘINA, Anna MACKOVÁ et. al.Basic information
Original name
Plasma enhanced CVD of hard DLC/SiOx coatings from methane and hexamethyldisiloxane
Name in Czech
Plazmochemická depozice tvrdých DLC/SiOx vrstev z metanu a hexametyldisiloxanu
Authors
ZAJÍČKOVÁ, Lenka (203 Czech Republic, guarantor), Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Czech Republic), Miroslav VALTR (203 Czech Republic), Vratislav PEŘINA (203 Czech Republic), Anna MACKOVÁ (203 Czech Republic) and Jana HOUDKOVÁ (203 Czech Republic)
Edition
Toronto, Kanada, 17th International Symposium on Plasma Chemistry, p. 589-590, 2 pp. 2005
Publisher
University of Toronto Press Inc.
Other information
Language
English
Type of outcome
Stať ve sborníku
Field of Study
10305 Fluids and plasma physics
Country of publisher
Canada
Confidentiality degree
není předmětem státního či obchodního tajemství
RIV identification code
RIV/00216224:14310/05:00014526
Organization unit
Faculty of Science
Keywords in English
DLC; PECVD; Hexamethyldisiloxane; RF discharge; RBS; ERD
Tags
Tags
International impact
Změněno: 17/7/2007 15:52, doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D.
V originále
In present paper we give some new results on our previously reported hard DLC/SiOx films deposited from the mixtures of CH4 and HMDSO and compare them with similar films deposited from CH4/HMDSO/H2 mixtures using a different generator. We show that significant drawbacks of the DLC films, high intrinsic stress, bad thermal stability and absorption in the visible range, can be limited by an incorporation of the SiOx component and we notice that this conclusion is achieved for many DLC/SiOx films in spite of the different method of preparation and, more surprisingly, of their different structure. However, particular film properties can be further improved by an optimization of the deposition conditions as concluded from the higher hardness of the films deposited from the CH4/HMDSO/H2 compared to the CH4/HMDSO feed.
In Czech
V tomto článku jsou ukázány některé nové výsledky získané při studiu depozice a vlastností již dříve studovaných DLC/SiOx vrstev připravených ze směsi CH4 a HMDSO. Tyto vrstvy jsou dále srovnávány s vrstvami připravenými ze směsi CH4/HMDSO/H2 za použití jiného generátoru. Je ukázáno, že podstatná nevýhoda DLC vrstev, tj. vysoké vnitřní pnutí, špatná tepelná stabilita a absorpce ve viditelné oblasti, mohou být eliminovány přidáním komponenty SiO2 do vrstev. Docházíme k závěru, že tato skutečnost je obecnou vlastností DLC/SiOx vrstev nezávisle na postupu přípravy i rozdílné struktuře. Nicméně konkrétní vlastnosti vrstev mohou být dále optimalizovány změnou depozičních podmínek, což je ukázáno na vyšší tvrdosti vrstev z CH4/HMDSO/H2 ve srovnání s CH4/HMDSO.
Links
| MSM0021622411, plan (intention) |
| ||
| 1K05025, research and development project |
|