Plasma enhanced CVD of hard DLC/SiOx coatings from methane and hexamethyldisiloxane

ZAJÍČKOVÁ, Lenka, Vilma BURŠÍKOVÁ, Miroslav VALTR, Vratislav PEŘINA, Anna MACKOVÁ and Jana HOUDKOVÁ. Plasma enhanced CVD of hard DLC/SiOx coatings from methane and hexamethyldisiloxane. In 17th International Symposium on Plasma Chemistry. Toronto, Kanada: University of Toronto Press Inc., 2005, p. 589-590.

Basic information

• Original name: Plasma enhanced CVD of hard DLC/SiOx coatings from methane and hexamethyldisiloxane
• Name in Czech: Plazmochemická depozice tvrdých DLC/SiOx vrstev z metanu a hexametyldisiloxanu
• Authors: ZAJÍČKOVÁ, Lenka (203 Czech Republic, guarantor), Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Czech Republic), Miroslav VALTR (203 Czech Republic), Vratislav PEŘINA (203 Czech Republic), Anna MACKOVÁ (203 Czech Republic) and Jana HOUDKOVÁ (203 Czech Republic).
• Edition: Toronto, Kanada, 17th International Symposium on Plasma Chemistry, p. 589-590, 2 pp. 2005.
• Publisher: University of Toronto Press Inc.

Other information

• Original language: English
• Type of outcome: Proceedings paper
• Field of Study: 10305 Fluids and plasma physics
• Country of publisher: Canada
• Confidentiality degree: is not subject to a state or trade secret
• RIV identification code: RIV/00216224:14310/05:00014526
• Organization unit: Faculty of Science
• Keywords in English: DLC; PECVD; Hexamethyldisiloxane; RF discharge; RBS; ERD
• Tags: DLC, ERD, Hexamethyldisiloxane, PECVD, RBS, RF discharge
• Tags: International impact

Abstract

In present paper we give some new results on our previously reported hard DLC/SiOx films deposited from the mixtures of CH4 and HMDSO and compare them with similar films deposited from CH4/HMDSO/H2 mixtures using a different generator. We show that significant drawbacks of the DLC films, high intrinsic stress, bad thermal stability and absorption in the visible range, can be limited by an incorporation of the SiOx component and we notice that this conclusion is achieved for many DLC/SiOx films in spite of the different method of preparation and, more surprisingly, of their different structure. However, particular film properties can be further improved by an optimization of the deposition conditions as concluded from the higher hardness of the films deposited from the CH4/HMDSO/H2 compared to the CH4/HMDSO feed.

Abstract (in Czech)

V tomto článku jsou ukázány některé nové výsledky získané při studiu depozice a vlastností již dříve studovaných DLC/SiOx vrstev připravených ze směsi CH4 a HMDSO. Tyto vrstvy jsou dále srovnávány s vrstvami připravenými ze směsi CH4/HMDSO/H2 za použití jiného generátoru. Je ukázáno, že podstatná nevýhoda DLC vrstev, tj. vysoké vnitřní pnutí, špatná tepelná stabilita a absorpce ve viditelné oblasti, mohou být eliminovány přidáním komponenty SiO2 do vrstev. Docházíme k závěru, že tato skutečnost je obecnou vlastností DLC/SiOx vrstev nezávisle na postupu přípravy i rozdílné struktuře. Nicméně konkrétní vlastnosti vrstev mohou být dále optimalizovány změnou depozičních podmínek, což je ukázáno na vyšší tvrdosti vrstev z CH4/HMDSO/H2 ve srovnání s CH4/HMDSO.

Links

• MSM0021622411, plan (intention): Name: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek

Investor: Ministry of Education, Youth and Sports of the CR, Study and application of plasma chemical reactions in non-isothermic low temperature plasma and its interaction with solid surface

• 1K05025, research and development project: Name: Příprava nových Si-O(N)-C materiálů plazmochemickou metodou

Investor: Ministry of Education, Youth and Sports of the CR, Synthesis of new Si-O(N)-C materials by plasmachemical methods