PECVD a opracování povrchu materiálů v nízkotlakých výbojích
ZAJÍČKOVÁ, Lenka. PECVD a opracování povrchu materiálů v nízkotlakých výbojích (PECVD and treatment of surfaces in low pressure discharges). 2005. |
Other formats:
BibTeX
LaTeX
RIS
|
Basic information | |
---|---|
Original name | PECVD a opracování povrchu materiálů v nízkotlakých výbojích |
Name (in English) | PECVD and treatment of surfaces in low pressure discharges |
Authors | ZAJÍČKOVÁ, Lenka (203 Czech Republic, guarantor). |
Edition | 2005. |
Other information | |
---|---|
Original language | Czech |
Type of outcome | Audiovisual works |
Field of Study | 10305 Fluids and plasma physics |
Country of publisher | Czech Republic |
Confidentiality degree | is not subject to a state or trade secret |
WWW | URL |
RIV identification code | RIV/00216224:14310/05:00014527 |
Organization unit | Faculty of Science |
Keywords in English | PECVD; plazmochemická depozice; plazma; plazmová modifikace |
Tags | PECVD, plazma, plazmochemická depozice, plazmová modifikace |
Changed by | Changed by: doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D., učo 1414. Changed: 9/1/2008 11:17. |
Abstract |
---|
Prezentace shrnuje plazmové technologie uplatňované pro depozici tenkých vrstev a modifikaci povrchů. |
Abstract (in English) |
---|
The presentations covers plasma technologies used for deposition of thin films and treatment of surfaces. |
Links | |
---|---|
1K05025, research and development project | Name: Příprava nových Si-O(N)-C materiálů plazmochemickou metodou |
Investor: Ministry of Education, Youth and Sports of the CR, Synthesis of new Si-O(N)-C materials by plasmachemical methods |
PrintDisplayed: 6/9/2024 17:43