ZAJÍČKOVÁ, Lenka. PECVD a opracování povrchu materiálů v nízkotlakých výbojích (PECVD and treatment of surfaces in low pressure discharges). 2005.
Other formats:   BibTeX LaTeX RIS
Basic information
Original name PECVD a opracování povrchu materiálů v nízkotlakých výbojích
Name (in English) PECVD and treatment of surfaces in low pressure discharges
Authors ZAJÍČKOVÁ, Lenka (203 Czech Republic, guarantor).
Edition 2005.
Other information
Original language Czech
Type of outcome Audiovisual works
Field of Study 10305 Fluids and plasma physics
Country of publisher Czech Republic
Confidentiality degree is not subject to a state or trade secret
WWW URL
RIV identification code RIV/00216224:14310/05:00014527
Organization unit Faculty of Science
Keywords in English PECVD; plazmochemická depozice; plazma; plazmová modifikace
Tags PECVD, plazma, plazmochemická depozice, plazmová modifikace
Changed by Changed by: doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D., učo 1414. Changed: 9/1/2008 11:17.
Abstract
Prezentace shrnuje plazmové technologie uplatňované pro depozici tenkých vrstev a modifikaci povrchů.
Abstract (in English)
The presentations covers plasma technologies used for deposition of thin films and treatment of surfaces.
Links
1K05025, research and development projectName: Příprava nových Si-O(N)-C materiálů plazmochemickou metodou
Investor: Ministry of Education, Youth and Sports of the CR, Synthesis of new Si-O(N)-C materials by plasmachemical methods
PrintDisplayed: 6/9/2024 17:43