PECVD a opracování povrchu materiálů v nízkotlakých výbojích

ZAJÍČKOVÁ, Lenka. PECVD a opracování povrchu materiálů v nízkotlakých výbojích (PECVD and treatment of surfaces in low pressure discharges). 2005.

Basic information

Original name

PECVD a opracování povrchu materiálů v nízkotlakých výbojích

Name (in English)

PECVD and treatment of surfaces in low pressure discharges

Authors

ZAJÍČKOVÁ, Lenka (203 Czech Republic, guarantor)

Edition

2005

---

Other information

Language

Czech

Type of outcome

Audiovizuální tvorba

Field of Study

10305 Fluids and plasma physics

Country of publisher

Czech Republic

Confidentiality degree

není předmětem státního či obchodního tajemství

References:

URL

RIV identification code

RIV/00216224:14310/05:00014527

Organization unit

Faculty of Science

Keywords in English

PECVD; plazmochemická depozice; plazma; plazmová modifikace

Tags

PECVD, plazma, plazmochemická depozice, plazmová modifikace

---

Abstract

V originále

Prezentace shrnuje plazmové technologie uplatňované pro depozici tenkých vrstev a modifikaci povrchů.

In English

The presentations covers plasma technologies used for deposition of thin films and treatment of surfaces.

---

Links

1K05025, research and development project

Name: Příprava nových Si-O(N)-C materiálů plazmochemickou metodou Investor: Ministry of Education, Youth and Sports of the CR, Synthesis of new Si-O(N)-C materials by plasmachemical methods