J 2005

Spectroscopic ellipsometry of sinusoidal surface-relief gratings

ANTOŠ, Roman, Ivan OHLÍDAL, Daniel FRANTA, Petr KLAPETEK, Jan MISTÍK et. al.

Basic information

Original name

Spectroscopic ellipsometry of sinusoidal surface-relief gratings

Name in Czech

Spektroskopická elipsometrie sinusoidálních reliéfních mřížek

Authors

ANTOŠ, Roman (203 Czech Republic), Ivan OHLÍDAL (203 Czech Republic, guarantor), Daniel FRANTA (203 Czech Republic), Petr KLAPETEK (203 Czech Republic), Jan MISTÍK (203 Czech Republic), Tomuo YAMAGUCHI (392 Japan) and Štefan VIŠŇOVSKÝ (203 Czech Republic)

Edition

Applied Surface Science, USA, ELSEVIER (NORTH-HOLLAND), 2005, 0169-4332

Other information

Language

English

Type of outcome

Článek v odborném periodiku

Field of Study

10302 Condensed matter physics

Country of publisher

United States of America

Confidentiality degree

není předmětem státního či obchodního tajemství

References:

Impact factor

Impact factor: 1.263

RIV identification code

RIV/00216224:14310/05:00013177

Organization unit

Faculty of Science

UT WoS

000228600200051

Keywords in English

Optical metrology; Spekroscopic ellipsometry; Sinusoidal gratings; Wood anomaly; RCWA; Incoherent light
Změněno: 3/2/2006 17:49, Mgr. Daniel Franta, Ph.D.

Abstract

V originále

Spectroscopic ellipsometry (SE) is used to study a sinusoidal-relief grating fabricated on a surface of transparent polymer. An optically thick polymer layer is situated on a glass substrate and its refraction index is optically matched to the index of the glass. The rigorous coupled-wave analysis, implemented as the airy-like internal reflection series, is applied to calculate the optical response of the relief grating. The entire optical response of the sample is determined by employing incoherent backreflections at the interface between the polymer and the glass. The parameters describing the dimensions and the real shape of the sine-like relief, as well as the quality of the optical matching between the polymer and the glass, are determined using SE together with atomic force microscopy as a complementary technique.

In Czech

Spektroskopická elipsometrie (SE) je použita pro studium mřížek se sinusovým reliefem, které byly připraveny na povrchu transparentního polymeru. Opticky tlustá polymerní vrstva je umístěna na skleněnou podložku a její index lomu je opticky přizpůsoben s indexem lomu skla. Rigorosní analýza vázaných vln implementovaná jako airyho podobná řada vnitřních odrazů je aplikována pro výpočet optické odezvy reliefní mřížky. Celková optická odezva vzorku je určena s využitím zpětných odrazů na rozhraní mezi polymerem a sklem. Parametry popisující rozměry a skutečný tvar sinusového reliefu stejně tak jako kvalitu optického přizpůsobení mezi polymerem a sklem jsou určeny s využitím spektroskopické elipsometrie a mikroskopie atomové síly jako komplementární techniky.

Links

GA202/03/0776, research and development project
Name: Magnetooptické jevy v magnetických nanostrukturách
ME 574, research and development project
Name: Výzkum nových materiálů pro informatiku: zvyšování hustoty magnetického záznamu