Detailed Information on Publication Record
2005
Combination of optical methods and atomic force microscopy at characterization of thin film systems
OHLÍDAL, Ivan, Daniel FRANTA and Petr KLAPETEKBasic information
Original name
Combination of optical methods and atomic force microscopy at characterization of thin film systems
Name in Czech
Kombinace optických metod a mikroskopie atomové síly pro zkoumání systémů tenkých vrstev
Authors
OHLÍDAL, Ivan (203 Czech Republic, guarantor), Daniel FRANTA (203 Czech Republic) and Petr KLAPETEK (203 Czech Republic)
Edition
Acta physica slovaca, Bratislava, Institute of Physics, SAS, 2005, 0323-0465
Other information
Language
English
Type of outcome
Článek v odborném periodiku
Field of Study
10302 Condensed matter physics
Country of publisher
Slovakia
Confidentiality degree
není předmětem státního či obchodního tajemství
References:
Impact factor
Impact factor: 0.359
RIV identification code
RIV/00216224:14330/05:00013181
Organization unit
Faculty of Informatics
UT WoS
000229323000004
Keywords in English
Roughness; Ellipsometry; Spectrophotometry; AFM
Tags
Změněno: 27/4/2006 19:52, RNDr. JUDr. Vladimír Šmíd, CSc.
V originále
In this paper the examples of combined analytical methods usable for the characterization of thin film systems are presented. As the optical methods variable angle spectroscopic ellipsometry and spectroscopic reflectometry are used. It is shown that these methods can be employed for the complete determination of both the optical and material parameters of the materials forming the films. Moreover, it is shown that using the combined methods of AFM and the optical methods specified it is also possible to determine the values of the parameters characterizing some defects of the film systems under investigation. Discussion of the reliability of the methods enabling us to determine the values of the statistical quantities describing the boundary roughness of the thin films is also presented. A detailed attention is devoted to the results achieved for these quantities by atomic force microscopy for very finely rough film boundaries (i.e. nanometrically rough boundaries). The practical meaning of the combined methods presented is illustrated using the characterization of several samples of TiO2 films, hydrogenated polymorphous silicon films and oxide films originating by thermal oxidation of gallium arsenide substrates.
In Czech
V tomto článku jsou uvedeny příklady kombinace analytických metod použitelných pro charakterizaci systémů tenkých vrstev. Jako optické metody jsou užity víceúhlová spektroskopická elipsometrie a spektroskopická reflektometrie. Je ukázáno, že tyto metody mohou být aplikovány pro úplné určení optických i materiálových parametrů látek vytvářejících tenké vrstvy. Navíc je ukázáno, že kombinované metody AFM a specifikovaných optických metod je možné využít k určení hodnot parametrů charakterizujících některé defekty zkoumaných systémů tenkých vrstev. Je také presentována diskuse spolehlivosti metod umožňujících určit hodnoty statistických veličin popisujících drsnost rozhraní. Podrobná pozornost je věnována výsledkům dosaženým pro tyto veličiny pomocí AFM pro velmi jemně drsná rozhraní tenkých vrstev (tj. pro nanometricky drsná rozhraní). Praktický význam uvedených kombinovaných metod je ilustrován pomocí chararakterizace několika vzorků TiO2 vrstev, hydrogenovaných polymorfních křemíkových vrstev a oxidových vrstev vzniklých termickou oxidací podložek z galium arsenidu.
Links
| FT-TA/094, research and development project |
| ||
| GA203/05/0524, research and development project |
| ||
| MSM 143100003, plan (intention) |
|