Detailed Information on Publication Record
2005
Characterization of optical thin films exhibiting defects
FRANTA, Daniel and Ivan OHLÍDALBasic information
Original name
Characterization of optical thin films exhibiting defects
Name in Czech
Charakterizace optických tenkých vrstev vykazující defekty
Authors
FRANTA, Daniel (203 Czech Republic, guarantor) and Ivan OHLÍDAL (203 Czech Republic)
Edition
Bellingham, Washington, USA, Advances in Optical Thin Films II, p. 59632H-1-59632H-12, 12 pp. 2005
Publisher
SPIE - The International Society for Optical Engineering
Other information
Language
English
Type of outcome
Stať ve sborníku
Field of Study
10302 Condensed matter physics
Country of publisher
United States of America
Confidentiality degree
není předmětem státního či obchodního tajemství
References:
RIV identification code
RIV/00216224:14330/05:00013207
Organization unit
Faculty of Informatics
ISBN
0-8194-5981-X
Keywords in English
ellipsometry; spectrophotometry; thin films; roughness; refractive index profile
Změněno: 27/4/2006 19:54, RNDr. JUDr. Vladimír Šmíd, CSc.
V originále
In this paper the mathematical formalism enabling us to include defects of thin films into the formulae expressing their optical quantities is presented. The attention is devoted to the defects consisting in boundary roughness and inhomogeneity corresponding to the refractive index profile. This mathematical formalism is based on 2x2 matrix algebra. The Rayleigh-Rice theory (RRT) is used for describing boundary roughness. The refractive index profile is included into the matrix formalism by means a special procedure based on combination of the Drude and Wentzel-Kramers-Brillouin-Jeffries (WKBJ) approximations. The mathematical formalism is applied for the optical characterization of thin films of TiO2 and As-S chalcogenides. Using this formalism the experimental data corresponding to the ellipsometric quantities, reflectance measured from the ambient side, reflectance measured from the substrate side and transmittance are treated. The corrections of the systematic errors connected with the reflection accessory of the spectrometer used is carried out using the special procedure.
In Czech
V tomto článku je prsentován matematický formalismus umožňující zahrnout defekty tenkých vrstev do rovnic vyjadřujících jejich optické konstanty. Pozornost je věnována defektům sestávajícím se z drsnosti rozhraní a nehomogenity odpovídající profilu indexu lomu. Tento matematický formalismus je založen na 2X2 maticové algebře. Rayleigh-Riceova teorie (RRT) je použita pro popis drsnosti rozhraní. Profil indexu lomu je zahrnut do maticového formalismu pomocí speciální metody založené na kombinaci Drudeho a Wentzel-Kramers-Brillouin -Jeffries (WKBJ) aproximaci. Matematický formalismus je aplikován pro optickou charakterizaci vrstev TiO2 a As-S chalkogenidů. Použitím tohoto formalismu jsou zpracována experimentální data odpovídající elipsometrickým veličinám, odrazivosti měřené ze strany vnějšího prostředí, odrazivosti měřené ze strany podložky, a propustnosti. Opravy systematických chyb spojených s přístavkem pro měření odrazivosti v použitém spektrofotometru jsou provedeny prostřednictvím speciální procedury.
Links
| GA203/05/0524, research and development project |
| ||
| MSM0021622411, plan (intention) |
|