OHLÍDAL, Ivan, Daniel FRANTA and Petr KLAPETEK. Ellipsometry in characterization of thin films. In Proceedings of the SREN 2005. Bratislava, Slovakia: Comenius University, 2005, p. 81-111. ISBN 80-223-2099-4.
Other formats:   BibTeX LaTeX RIS
Basic information
Original name Ellipsometry in characterization of thin films
Name in Czech Elipsometrie při charakterizaci tenkých vrstev
Authors OHLÍDAL, Ivan (203 Czech Republic, guarantor), Daniel FRANTA (203 Czech Republic) and Petr KLAPETEK (203 Czech Republic).
Edition Bratislava, Slovakia, Proceedings of the SREN 2005, p. 81-111, 31 pp. 2005.
Publisher Comenius University
Other information
Original language English
Type of outcome Proceedings paper
Field of Study 10302 Condensed matter physics
Country of publisher Slovakia
Confidentiality degree is not subject to a state or trade secret
WWW URL
RIV identification code RIV/00216224:14330/05:00013302
Organization unit Faculty of Informatics
ISBN 80-223-2099-4
Keywords in English Ellipsometry; Thin films
Tags ellipsometry, thin films
Changed by Changed by: RNDr. JUDr. Vladimír Šmíd, CSc., učo 1084. Changed: 27/4/2006 19:55.
Abstract
In this paper the principles of ellipsometry together with a description of important ellipsometric techniques are briefly presented. A general classification of the ellipsometric methods significant from the practical point of view is performed as well.Furthermore, the general principles of the optical characterization of thin film systems are introduced. Thus, the main steps for creating the structural models of the thin film systems are described together with classification of the mathematical formalism usable for deriving the formulae usable for the optical characterization of the system mentioned. The three significant dispersion models enabling us to express the spectral dependences of the optical constants of the amorphous dielectric and semiconductor thin films within the wide spectral region are also described, i.e. the Tauc-Lorentz model, Ferlauto et al. model and model based on parameterization of the density of electronic states are discussed. Three examples of the optical characterization of thin films are illustrated, i.e. the results of the optical characterization of polymorphous silicon films, As-S chalcogenide films and TiO2 films achieved using the ellipsometric methods combined with spectrophotometric ones are presented and discussed. A possibility of using the methods presented here for characterizing the films employed for creating solar cells is introduced too.
Abstract (in Czech)
V tomto článku jsou stručně presentovány principy elipsometrie spolu s popisem hlavních elipsometrických technik. Obecná klasifikace elipsometrických metod významných s praktického hlediska je provedena rovněž. Dále jsou uvedeny i principy optické charakterizace systémů tenkých vrstev. Tudíž hlavní kroky pro vytvoření strukturních modelů tenkovrstevných systémů jsou popsány spolu s klasifikací matematického formalismu použitelného pro pro odvození rovnic vhodných pro optickou charakterizaci zmíněných systémů. Tři důležité dispersní modely nám umožňující vyjádřit spektrální závislosti optických konstant amorfních dielektrických a polovodičových tenkých vrstev v rámci široké spektrální oblasti jsou také popsány, tj. Tauc-Lorentz model, Ferlauto et al model a model založený na parametrizaci hustoty elektronových stavů jsou diskutovány. Tři příkladyoptické charakterizace tenkých vrstev jsou ilustrovány, tj. výsledky optické charakterizace polymorfních křemíkových vrstev, As-S chalkogenidových vrstev a TiO2 vrstev dosažené pomocí elipsometrických metod kombinovaných se spektrofotometrickými metodami jsou presentovány a diskutovány. Možnost využití těchto metod pro charakterizaci vrstev používaných pro vytváření solárních článků jsou rovněž uvedeny.
Links
GA203/05/0524, research and development projectName: Fotonická skla a amorfní vrstvy
Investor: Czech Science Foundation, Photonics glasses and amorphous films
MSM0021622411, plan (intention)Name: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministry of Education, Youth and Sports of the CR, Study and application of plasma chemical reactions in non-isothermic low temperature plasma and its interaction with solid surface
PrintDisplayed: 7/8/2024 01:32