Nanometric sampling depth and depth profiling of multilayered metal samples with LIBS

LASERNA, Javier; Luisa CABALIN; Tereza ČTVRTNÍČKOVÁ a Fran FORTES. Nanometric sampling depth and depth profiling of multilayered metal samples with LIBS. In EMSLIBS 2005. Aachen, Germany: Fraunhofer Institut Lasertechnik, 2005, s. 52-52.

Základní údaje

Originální název

Nanometric sampling depth and depth profiling of multilayered metal samples with LIBS

Název česky

Nanometrická vzorkovací hloubka a hloubkové profilování vrstevnatých kovových materiálů pomocí LIBS

Autoři

LASERNA, Javier; Luisa CABALIN; Tereza ČTVRTNÍČKOVÁ a Fran FORTES

Vydání

Aachen, Germany, EMSLIBS 2005, od s. 52-52, 1 s. 2005

Nakladatel

Fraunhofer Institut Lasertechnik

---

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Stať ve sborníku

Obor

10406 Analytical chemistry

Stát vydavatele

Německo

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

Klíčová slova anglicky

LIBS; nanometric; depth profiling

Štítky

Depth profiling, LIBS, nanometric

---

Anotace

V originále

The main aim of this work was to improve the depth resolution of multilayered samples applying an optical restriction to the laser beam between the focusing lens and the sample. Although the craters continue to have conical shapes, we have observed atomic emission only from the central region of the plume. The average ablation rates and depth profiles of various metals (Cr, Ni, Cu) in multilayered samples were studied by LIBS. The microplasma was created on the sample by a Nd:YAG laser doubled in frequency to 532 nm with a homogeneous distribution of energy. Light emitted by the microplasma was detected with an iCCD multichannal detector. The sample defocusing effect was studied to reach the optimal ablation in range of few nanometers per pulse. In the experiment, the optical restrictions (pinholes of various diameters) were used to improve the depth profile.

Česky

Hlavním cílem práce bylo vylepšit hloubkové rozlišení vícevrstvých vzorků pomocí umístění optické zábrany (clony, pinhole) do cesty laserovému paprsku mezi fokusovací čočku a vzorek. Krátery měly stále kónický tvar, ale clona umožnila pozorování atomové emise pouze z centrální části plazmatu. Technika LIBS byla použita ke stanovení průměrné ablační rychlost a hloubkových profilů různých kovů (Cr, Ni, Cu) ve vrstevnatých vzorcích. Mikroplazma na povrchu vzorku bylo vytvořeno Nd:YAG laserem (532 nm) s homogenní distribucí energie. Záření emitované mikroplazmatem bylo detekováno pomocí iCCD multikanálového detektoru. Zaostření paprsku nad povrch vzorku bylo studováno a vybráno takové, aby ablační rychlost byla v řádu několika nanometrů na jeden laserový puls. Optické zábrany s různými rozměry vnitřního otvoru byly použity k vylepšení hloubkového profilu.