VALTR, Miroslav, Ivan OHLÍDAL and Daniel FRANTA. Optical characterization of carbon films prepared by PECVD using ellipsometry and reflectometry. Czech. J. Phys. Praha: Institute of Physics Academy of Sciences, 2006, 56/2006, Suppl. B, p. 1103 - 1109. ISSN 0011-4626.
Other formats:   BibTeX LaTeX RIS
Basic information
Original name Optical characterization of carbon films prepared by PECVD using ellipsometry and reflectometry
Name in Czech Optická charakterizace uhlíkových vrstev připravených metodou PECVD pomocí elipsometrie a reflektometrie
Authors VALTR, Miroslav (203 Czech Republic, guarantor), Ivan OHLÍDAL (203 Czech Republic) and Daniel FRANTA (203 Czech Republic).
Edition Czech. J. Phys. Praha, Institute of Physics Academy of Sciences, 2006, 0011-4626.
Other information
Original language English
Type of outcome Article in a journal
Field of Study 10305 Fluids and plasma physics
Country of publisher Czech Republic
Confidentiality degree is not subject to a state or trade secret
Impact factor Impact factor: 0.568
RIV identification code RIV/00216224:14310/06:00015814
Organization unit Faculty of Science
UT WoS 000241337000010
Keywords in English plasma discharge; PECVD; ellipsometry; reflectometry; plasma
Tags ellipsometry, PECVD, plasma, plasma discharge, Reflectometry
Tags International impact, Reviewed
Changed by Changed by: Mgr. Miroslav Valtr, Ph.D., učo 13715. Changed: 4/7/2009 17:58.
Abstract
Carbon polymer-like films were prepared using plasma enhanced chemical vapor deposition in pulsed regime in Ar-acetylene gas mixture. The optical characterization of these films was performed by variable angle spectroscopic ellipsometry and spectroscopic reflectometry. Within the characterization the thicknesses, spectral dependences of the refractive index and extinction coefficient, dispersion parameters and the root-mean-square values of the heights of boundary roughness were determined. Non-negligible differences between the dependences of the film thickness on the deposition time determined using the ellipsometric data on the one hand and reflectometric data on the other hand were observed. These differences were explained by the fact that the films exhibited other defects that were not included in their structural model. Sensitivity of the optical parameters of the films on UV irradiation was also observed.
Abstract (in Czech)
Uhlíkové polymerní vrstvy byly připraveny plazmovou depozicí z plynné fáze v pulzním režimu ve směsi Ar-acetylén. Optická charakterizace těchto vrstev byla provedena pomocí spektroskopické elipsometrie pod různými úhly dopadu a spektroskopické reflektometrie. V rámci optické charakterizace byly zjištěny tloušťky, spektrální závislosti indexu lomu a indexu absorpce, disperzní parametry a střední kvadratické odchylky výšek drsnosti rozhraní. Byly pozorovány nezanedbatelné odchylky mezi závislostmi tloušťek vrstev na době depozice určenými pomocí elipsometrie na jedné straně a závislostmi určenými pomocí reflektometrie na straně druhé. Tyto odchylky byly vysvětleny tím, že vrstvy vykazovaly i jiné defekty, které nebyly zahrnuty v jejich strukturním modelu. Byla rovněž pozorována citlivost optických parametrů vrstev na ozáření UV.
Links
GD202/03/H162, research and development projectName: Pokročilé směry ve fyzice a chemii plazmatu
Investor: Czech Science Foundation
MSM0021622411, plan (intention)Name: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministry of Education, Youth and Sports of the CR, Study and application of plasma chemical reactions in non-isothermic low temperature plasma and its interaction with solid surface
PrintDisplayed: 7/8/2024 01:30