Informační systém MU
BURŠÍKOVÁ, Vilma, Lenka ZAJÍČKOVÁ, Pavel DVOŘÁK, Miroslav VALTR, Jiří BURŠÍK, Olga BLÁHOVÁ, Vratislav PEŘINA a Jan JANČA. Influence of Silicon, Oxygen and Nitrogen Upon the Properties of Plasma Deposited Amorphous Diamond-like Carbon Coatings. Journal of advanced oxidation technologies. Dundas, Ontario, Canada: Science & Technology Network, Inc., 2006, roč. 9, č. 2, s. 232-237, 5 s. ISSN 1203-8407.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Influence of Silicon, Oxygen and Nitrogen Upon the Properties of Plasma Deposited Amorphous Diamond-like Carbon Coatings
Název česky Vliv příměsí křemíku, kyslíku a dusíku na vlastnosti amorfních diamantu podobných uhlíkových vrstev deponovaných v plazmatu
Autoři BURŠÍKOVÁ, Vilma (203 Česká republika, garant), Lenka ZAJÍČKOVÁ (203 Česká republika), Pavel DVOŘÁK (203 Česká republika), Miroslav VALTR (203 Česká republika), Jiří BURŠÍK (203 Česká republika), Olga BLÁHOVÁ (203 Česká republika), Vratislav PEŘINA (203 Česká republika) a Jan JANČA (203 Česká republika).
Vydání Journal of advanced oxidation technologies, Dundas, Ontario, Canada, Science & Technology Network, Inc. 2006, 1203-8407.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Kanada
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Impakt faktor Impact factor: 0.850
Kód RIV RIV/00216224:14310/06:00017368
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
UT WoS 000239478600023
Klíčová slova anglicky Silicon; Oxygen; Nitrogen; Admixtures; PECVD; Amorphous Diamond-like Carbon Coatings
Štítky Admixtures, Amorphous Diamond-like Carbon Coatings, Nitrogen, Oxygen, PECVD, Silicon
Příznaky Mezinárodní význam, Recenzováno
Změnil Změnil: Mgr. Miroslav Valtr, Ph.D., učo 13715. Změněno: 4. 7. 2009 17:59.
Anotace
Amorphous diamond-like carbon films (DLC) with various silicon, oxygen and nitrogen content were deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) technique. The films were prepared from the mixture of methane and hexamethyldisiloxane (HMDSO) in r.f. capacitively coupled discharges (13.56 MHz). The reactive plasma was investigated by optical emission spectroscopy and capacitive coupled planar probe. A combination of RBS, ERDA, FTIR and XPS methods was used to study the films' chemical composition and structure. The mechanical properties were studied using a depth sensing indentation technique. The films were mainly composed of C-C, C-H and C-Si bonds. The optimum deposition conditions for the preparation of DLC films, with enhanced thermo-mechanical stability, were determined.
Návaznosti
MSM0021622411, záměrNázev: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Zobrazeno: 9. 7. 2024 15:31