J 2007

Deposition of protective coatings in rf organosilicon discharges

ZAJÍČKOVÁ, Lenka, Vilma BURŠÍKOVÁ, Zuzana KUČEROVÁ, Daniel FRANTA, Pavel DVOŘÁK et. al.

Základní údaje

Originální název

Deposition of protective coatings in rf organosilicon discharges

Název česky

Depozice ochranných vrstev ve vysokofrekvenčních výbojích v parách organosilikonu

Autoři

ZAJÍČKOVÁ, Lenka (203 Česká republika, garant), Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Česká republika), Zuzana KUČEROVÁ (203 Česká republika), Daniel FRANTA (203 Česká republika), Pavel DVOŘÁK (203 Česká republika), Radek ŠMÍD (203 Česká republika), Vratislav PEŘINA (203 Česká republika) a Anna MACKOVÁ (203 Česká republika)

Vydání

Plasma Sources Science and Technology, Bristol, Institute of Physics Publishing, 2007, 0963-0252

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Velká Británie a Severní Irsko

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Impakt faktor

Impact factor: 2.120

Kód RIV

RIV/00216224:14310/07:00022271

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

UT WoS

000244370700016

Klíčová slova anglicky

CARBON-FILMS; GLOW-DISCHARGES; PLASMA; PECVD; POLYCARBONATE; SUBSTRATE

Štítky

CARBON-FILMS, GLOW-DISCHARGES, PECVD, plasma, polycarbonate, SUBSTRATE

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 3. 1. 2011 11:26, doc. Mgr. Pavel Dvořák, Ph.D.

Anotace

ORIG CZ

V originále

The paper discusses the deposition of protective coatings ranging from organosilicon plasma polymers to SiO2-like films and hard diamond-like carbon/silicon oxide (DLC : SiOx) coatings in radio frequency capacitively coupled discharges using hexamethyldisiloxane (HMDSO). As a result of the optimization of the deposition conditions it was possible to obtain high performance protective coatings. In the HMDSO/O-2 mixture, it was shown that rather than the SiO2-like film a hard cross-linked SiOx C-y H-z polymer film can be used as a protective coating for polycarbonate. The optimum conditions for the deposition of an almost stress-free film were 17% of HMDSO and dc bias voltage of -240V. The film hardness and elastic modulus were 10GPa and 75GPa, respectively. The refractive index at 600 nm was 1.5 and the extinction coefficient decreased from 0.02 at 240 nm down to zero at 600 nm. The films deposited from HMDSO/CH4 and HMDSO/CH4/H-2 mixtures exhibited the attractive properties of DLC films with the partial elimination of some of their drawbacks, such as absorption in the visible and a high intrinsic stress. The optimum concentration of the HMDSO was approximately 21%. Under these conditions the concentration of SiOx in the films was approximately 9 at.%. The film hardness and elastic modulus were above 22 GPa and 120 GPa, respectively.

Česky

Článek diskutuje depozici různých typů ochranných vrstev, organosilikonových plazmových polymerů, SiO2 vrstev a tvrdých uhlíkových diamantu podobných vrstev s obsahem SiOx (DLC:SiOx), ve vysokofrekvenčním kapacitně vázaném výboji s použitím hexametyldisiloxanu (HMDSO). Vrstvy připravené z HMDSO/CH4 a HMDSO/CH4/H2 směsí vykazovaly atraktivní vlastnosti DLC vrstev s částečným optlačením jejich některých nevýhod jako jsou absorpce ve viditelné oblasti a vysoké vnitřní pnutí.

Návaznosti

MSM0021622411, záměr
Název: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
1K05025, projekt VaV
Název: Příprava nových Si-O(N)-C materiálů plazmochemickou metodou
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Příprava nových Si-O(N)-C materiálů plazmochemickou metodou
Zobrazeno: 4. 11. 2024 15:53