Detailed Information on Publication Record
2007
Study of thickness reduction of a-C:H thin film under UV light irradiation
VALTR, Miroslav, Petr KLAPETEK, Ivan OHLÍDAL and Václav DUCHOŇBasic information
Original name
Study of thickness reduction of a-C:H thin film under UV light irradiation
Name in Czech
Studium redukce tlouštky amorfní uhlíkové tenké vrstvy vlivem UV záření
Authors
VALTR, Miroslav (203 Czech Republic, guarantor), Petr KLAPETEK (203 Czech Republic), Ivan OHLÍDAL (203 Czech Republic) and Václav DUCHOŇ (203 Czech Republic)
Edition
Prague, Proceedings of ICPIG XXVIII Conference, p. 761-764, 4 pp. 2007
Publisher
Institute of Plasma Physics AS CR
Other information
Language
English
Type of outcome
Stať ve sborníku
Field of Study
10305 Fluids and plasma physics
Country of publisher
Czech Republic
Confidentiality degree
není předmětem státního či obchodního tajemství
RIV identification code
RIV/00216224:14310/07:00019457
Organization unit
Faculty of Science
ISBN
978-80-87026-01-4
Keywords in English
Carbon; Oxidation; Optical Properties
Tags
Tags
International impact, Reviewed
Změněno: 10/1/2010 17:35, Mgr. Miroslav Valtr, Ph.D.
V originále
In this paper we present a study of thickness reduction of an amorphous hydrocarbon (a-C:H) thin film under UV light irradiation. Optical parameters of the film are examined by means of spectroscopic ellipsometry and area reflectance measurement. We observed a linear dependence in thickness reduction. The reduction velocity is 10.1 nm/h in this region. However, if the thickness of the film was less then approx. 14 nm, the reduction velocity decreases subsequently. Area reflectance measurement consisting in taking reflectance spectra in many points lying along the area of the sample is used to create a map with thickness distribution along this area. This method is very sensitive to small thickness variations.
In Czech
V příspěvku je prezentováno studium redukce tlouštky amorfní uhlíkové tenké vrstvy vlivem UV záření. Optické parametry vrstvy jsou určovány pomocí spektroskopické elipsometrie a plošného měření reflektance. Byla pozorována lineární závislost v poklesu tlouštky vrstvy. Rychlost je poklesu 10,1 nm/h. Avšak pokud byla tlouštka vrstvy menší než cca 14 nm, rychlost poklesu tlouštky vrstvy se postupně zmenšovala. Měření plošné reflektance, spočívající v naměření odrazivosti v mnoha bodech na povrchu vzorku, se využilo ke stanovení rozložení tlouštky. Tato metoda je velmi citlivá k malým změnám tlouštky.
Links
| KAN311610701, research and development project |
|