D 2007

Deposition and analysis of thin films produced in atmospheric pressure glow discharge

ŠÍRA, Martin, Vilma BURŠÍKOVÁ, Daniel FRANTA and David TRUNEC

Basic information

Original name

Deposition and analysis of thin films produced in atmospheric pressure glow discharge

Name in Czech

Depozice a analýza tenkých vrstev vytořených v atmosférickém doutnavém výboji

Authors

ŠÍRA, Martin (203 Czech Republic, guarantor), Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Czech Republic), Daniel FRANTA (203 Czech Republic) and David TRUNEC (203 Czech Republic)

Edition

Praha, Proceedings of XXVIII International Conference on Phenomena in Ionized Gases, p. 713-716, 4 pp. 2007

Publisher

J.Schmidt, M. Šimek, S.Pekárek, V.Prukner

Other information

Language

English

Type of outcome

Stať ve sborníku

Field of Study

10305 Fluids and plasma physics

Country of publisher

Czech Republic

Confidentiality degree

není předmětem státního či obchodního tajemství

RIV identification code

RIV/00216224:14310/07:00020440

Organization unit

Faculty of Science

ISBN

978-80-87026-01-4

Keywords in English

atmospheric pressure glow discharge thin films

Tags

International impact
Změněno: 6/9/2007 11:08, Mgr. Martin Šíra, Ph.D.

Abstract

ORIG CZ

V originále

The atmospheric pressure glow discharge was used for the deposition of thin organosilicon polymer films. The plasma was burning in pure nitrogen used as a carrier gas and a small admixture of organosilicons compounds such as hexamethyldisilazane (HMDSN) or hexamethyldisiloxane (HMDSO) was used as a monomer. The temperature of the substrate was elevated up to 120 C to obtain harder thin films. The homogeneity of thin films was enhanced using movable upper electrode. Electrical measurements were used to distinguish between glow and filamentary regime. Mechanical properties of deposited films were characterised by depth sensing indentation technique. The films were polymer-like, transparent in visible range, with uniform thickness and without pinholes.

In Czech

Tenké polymerní organosilikonové vrstvy byly deponovány v atmosférickém doutnavém výboji. Výboj byl zapálen v dusíku s malou příměsí hexamethyldisiloxanu. Teplota substrátu byla zvýšena až na 120 stupňů celsia za účelem zvýšení tvrdosti vrstev. Mezi doutnavým a filamentním výbojem bylo rozlišováno pomocí měření elektrických veličin. Mechanické vlastnosti vrstev byly určeny mikrotvrdoměrem. Vrstvy byly polymerního charakteru, průhledné v optickém spektru s uniformní tloušťkou a nízkou drsností.

Links

GA202/06/1473, research and development project
Name: Depozice tenkých vrstev v dielektrických bariérových výbojích za atmosférického tlaku
Investor: Czech Science Foundation, Deposition of thin films in dielectric barrier discharges at atmospheric pressure