D 2007

Structure and properties of DLC/SiOx films deposited in CW and pulsed plasma

GRANIER, A., T. BEGOU, C. DUQUENNE, M.A. DJOUADI, X. FENG et. al.

Basic information

Original name

Structure and properties of DLC/SiOx films deposited in CW and pulsed plasma

Name in Czech

Struktura a vlastnosti DLC/SiOx vrstev připravených v CW a pulzním plazmatu

Authors

GRANIER, A., T. BEGOU, C. DUQUENNE, M.A. DJOUADI, X. FENG, Vilma BURŠÍKOVÁ and Lenka ZAJÍČKOVÁ

Edition

Kyoto, Japan, 18th International Symposium on Plasma Chemistry, Abstracts and Full-Papers CD, p. 1-4, 4 pp. 2007

Publisher

Kyoto University

Other information

Language

English

Type of outcome

Stať ve sborníku

Field of Study

10302 Condensed matter physics

Country of publisher

Japan

Confidentiality degree

není předmětem státního či obchodního tajemství

Organization unit

Faculty of Science

ISBN

978-9903773-2-8

Keywords in English

DLC;PECVD;HMDSO;mechanical properties

Tags

International impact
Změněno: 16/7/2008 14:06, Mgr. Petr Bureš

Abstract

V originále

Structure and properties of DLC/SiOx films deposited in CW and pulsed plasma

In Czech

Struktura a vlastnosti DLC/SiOx vrstev připravených v CW a pulzním plazmatu

Links

GA106/05/0274, research and development project
Name: Víceúrovňové studium vztahů mezi mechanickými a mikrostrukturními charakteristikami materiálů
Investor: Czech Science Foundation, Multiscale approach to relationships between mechanical and microstructural characteristics of materials
KAN311610701, research and development project
Name: Nanometrologie využívající metod rastrovací sondové mikroskopie
Investor: Academy of Sciences of the Czech Republic
MSM0021622411, plan (intention)
Name: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministry of Education, Youth and Sports of the CR, Study and application of plasma chemical reactions in non-isothermic low temperature plasma and its interaction with solid surface