DVOŘÁK, Pavel a Petr VAŠINA. Harmonic analysis of discharge voltages as a tool to control RF sputtering deposition process. In 19th Europhysics Conference on the Atomic and Molecular Physics of Ionized Gases - Book of Abstracts. 32 A. Granada: European Physical Society, 2008. s. 78P (topic 5), 2 s. ISBN 2-914771-04-5.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Harmonic analysis of discharge voltages as a tool to control RF sputtering deposition process
Název česky Kontrola reaktivního naprašování pomocí analýzy harmonických frekvencí napětí vf. výboje
Autoři DVOŘÁK, Pavel (203 Česká republika, garant) a Petr VAŠINA (203 Česká republika).
Vydání 32 A. Granada, 19th Europhysics Conference on the Atomic and Molecular Physics of Ionized Gases - Book of Abstracts, od s. 78P (topic 5), 2 s. 2008.
Nakladatel European Physical Society
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Stať ve sborníku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Španělsko
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
WWW URL
Kód RIV RIV/00216224:14310/08:00024832
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
ISBN 2-914771-04-5
Klíčová slova anglicky magnetron; reactive sputtering; plasma; discharge; higher harmonics;
Štítky discharge, higher harmonics, magnetron, plasma, reactive sputtering
Příznaky Mezinárodní význam, Recenzováno
Změnil Změnil: prof. Mgr. Petr Vašina, Ph.D., učo 21782. Změněno: 7. 8. 2008 09:52.
Anotace
The fundamental and the higher harmonics of the cathode voltage and of the uncompensated probe potential were used as a tool to control the reactive magnetron sputtering. It was shown that this methode is very sensitive and is suitable for the control of the deposition process.
Anotace česky
Kontrola reaktivního magnetronového naprašování pomocí měření základní a vyšších harmonických frekvencí výbojových napětí.
Návaznosti
GP202/08/P038, projekt VaVNázev: Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
Investor: Grantová agentura ČR, Postdoktorské projekty
MSM0021622411, záměrNázev: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Výzkumné záměry
VytisknoutZobrazeno: 2. 6. 2020 12:55