Measurement of Fundamental and Higher Harmonic Frequencies as Tool to Control RF Sputtering Deposition Process

DVOŘÁK, Pavel and Petr VAŠINA. Measurement of Fundamental and Higher Harmonic Frequencies as Tool to Control RF Sputtering Deposition Process. In Programme and Abstract Book of the 23rd Symposium on Plasma Physics and Technology. Praha: CVUT v Praze, 2008, p. 91-92, 1 pp. ISBN 978-80-01-04030-0.

Basic information

Original name

Measurement of Fundamental and Higher Harmonic Frequencies as Tool to Control RF Sputtering Deposition Process

Name in Czech

Měření základní a vyšších harmonických frekvencí za účelem kontroly vf. reaktivního naprašování

Authors

DVOŘÁK, Pavel (203 Czech Republic, guarantor) and Petr VAŠINA (203 Czech Republic)

Edition

Praha, Programme and Abstract Book of the 23rd Symposium on Plasma Physics and Technology, p. 91-92, 1 pp. 2008

Publisher

CVUT v Praze

---

Other information

Language

English

Type of outcome

Stať ve sborníku

Field of Study

10305 Fluids and plasma physics

Country of publisher

Czech Republic

Confidentiality degree

není předmětem státního či obchodního tajemství

RIV identification code

RIV/00216224:14310/08:00024835

Organization unit

Faculty of Science

ISBN

978-80-01-04030-0

Keywords in English

higher harmonics; plasma; discharge; reactive sputtering; magnetron

Tags

discharge, higher harmonics, magnetron, plasma, reactive sputtering

---

Abstract

V originále

A new method to control whether a radio-freguency (RF) reactive sputtering deposition processes runs in a pre-adjusted experimental conditions was proposed. The frequency spectrum of the cathode voltage and of the voltage on an uncompensated probe immersed in the plasma was measured and it was proved, that some of the harmonics are extremely sensitive markers of the transition between the metallic and the compound mode of the RF sputtering.

In Czech

Byla navržena nová metoda kontroly vysokofrekvenčního reaktivního magnetronového naprašování založená na měření frekvenčního spektra katodového napětí nebo napětí měřeného na nekompenzované sondě vsunuté do plazmatu. Amplitudy některých harmonických frekvencí byly velice citlivé na sledovaný přeskok mezi kovovým a otráveným režimem magnetronového naprašování.

---

Links

GP202/08/P038, research and development project	Name: Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev Investor: Czech Science Foundation, Study of hybrid deposition process and its application for thin film deposition
MSM0021622411, plan (intention)	Name: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek Investor: Ministry of Education, Youth and Sports of the CR, Study and application of plasma chemical reactions in non-isothermic low temperature plasma and its interaction with solid surface