NUCLEATION AND PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF ULTRANANOCRYSTALLINE DIAMOND FILMS ON DIFFERENT SUBSTRATES

KARÁSKOVÁ, Monika, Lenka ZAJÍČKOVÁ, Vilma BURŠÍKOVÁ, Ondřej JAŠEK, Daniel FRANTA, Jiřina MATĚJKOVÁ a Petr KLAPETEK. NUCLEATION AND PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF ULTRANANOCRYSTALLINE DIAMOND FILMS ON DIFFERENT SUBSTRATES. In CESPC II Book Of Extended Abstracts. 1. vyd. Brno: Masarykova Univerzita, 2008, s. 159-160.

Základní údaje

• Originální název: NUCLEATION AND PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF ULTRANANOCRYSTALLINE DIAMOND FILMS ON DIFFERENT SUBSTRATES
• Název česky: Nukleace a růst ultrananokrystalických diamantových vrstev metodou PEVCD na různých substrátech
• Autoři: KARÁSKOVÁ, Monika (203 Česká republika, garant), Lenka ZAJÍČKOVÁ (203 Česká republika), Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Česká republika), Ondřej JAŠEK (203 Česká republika), Daniel FRANTA (203 Česká republika), Jiřina MATĚJKOVÁ (203 Česká republika) a Petr KLAPETEK (203 Česká republika).
• Vydání: 1. vyd. Brno, CESPC II Book Of Extended Abstracts, od s. 159-160, 2 s. 2008.
• Nakladatel: Masarykova Univerzita

Další údaje

• Originální jazyk: angličtina
• Typ výsledku: Stať ve sborníku
• Obor: 10305 Fluids and plasma physics
• Stát vydavatele: Česká republika
• Utajení: není předmětem státního či obchodního tajemství
• Kód RIV: RIV/00216224:14310/08:00024394
• Organizační jednotka: Přírodovědecká fakulta
• Klíčová slova anglicky: ultrananocrystalline diamond; PECVD; nucleation
• Štítky: nucleation, PECVD, ultrananocrystalline diamond
• Příznaky: Mezinárodní význam

Anotace

Ultrananocrystalline diamond (UNCD) films were deposited in microwave bell jar plasma reactor of ASTeX type. The applied mw power, pressure and substrate temperature were from 800 to 950 W, 7.5 kPa and from 1000 to 1100K. The deposition mixture were from 2 to 9.4 percent of methane in methane/hydrogen gas feed. Reactor was modified by rf capacitive discharge providing a negative dc self bias -125V at the substrate holder, for using bias enhanced nucleation (BEN) methode as a pretreatement method. The mechanical properties were studied by depth sensing indentation technique using FISHERSCOPE H100 XYp, the surface morphology of the deposited films was studied by atomic force microscopy (AFM) and scanning electron microscopy (SEM).The UNCD films exhibited high hardness of 70 GPa, elastic modulus of 375 GPa and very low roughness in the range from 9 to 18 nm.

Anotace česky

Ultrananokrystalické diamantové vrstvy byly připraveny v reaktoru ASTEX ze směsi metan vodík za pomoci nukleace metodou BEN. Mechanické vlastnosti byly zkoumány pomocí nanoidentace na přístroji FISHERSCOPE H100 XYp a morfologie vrstev byla zkoumána metodami AFM a SEM.

Návaznosti

• GA202/05/0607, projekt VaV: Název: Příprava uhlíkových mikro- a nanostruktur plazmovými technologiemi

Investor: Grantová agentura ČR, Příprava uhlíkových mikro- a nanostruktur plazmovými technologiemi

• KAN311610701, projekt VaV: Název: Nanometrologie využívající metod rastrovací sondové mikroskopie

Investor: Akademie věd ČR, Nanometrologie využívající metod rastrovací sondové mikroskopie

• MSM0021622411, záměr: Název: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek

Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek