GROZA, A., A. SURMEIAN, C. DIPLASU, A. TEMPEZ, P. CHAPON, L. LOBO, L. BORDEL, Tereza SCHMIDTOVÁ, Petr VAŠINA, P. BELENGUER, T. NELIS, P. GUILLOT, N. TUCCITO a A. LICCIARDELLO. Ionization Processes and Plasma Chemistry in Pulsed RF Glow Discharge TOF Mass Spectroscopy for Thin Film Depth Profile Analyses. In Book of Abstracts, Second Central European Symposium on Plasma Chemistry. Brno: Masarykova univerzita, 2008, s. 72-73.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Ionization Processes and Plasma Chemistry in Pulsed RF Glow Discharge TOF Mass Spectroscopy for Thin Film Depth Profile Analyses
Název česky Ionizační procesy a plazmová chemie v pulzním RF výboji TOF hmotnostního spektrometru užitá pro hloubkové profily tenkých vrstev
Autoři GROZA, A. (642 Rumunsko), A. SURMEIAN (642 Rumunsko), C. DIPLASU (642 Rumunsko), A. TEMPEZ (250 Francie), P. CHAPON (250 Francie), L. LOBO (724 Španělsko), L. BORDEL (724 Španělsko), Tereza SCHMIDTOVÁ (203 Česká republika), Petr VAŠINA (203 Česká republika, garant), P. BELENGUER (250 Francie), T. NELIS (250 Francie), P. GUILLOT (250 Francie), N. TUCCITO (380 Itálie) a A. LICCIARDELLO (380 Itálie).
Vydání Brno, Book of Abstracts, Second Central European Symposium on Plasma Chemistry, od s. 72-73, 2 s. 2008.
Nakladatel Masarykova univerzita
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Stať ve sborníku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14310/08:00027406
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Klíčová slova anglicky depth profiles; TOF spectrometry
Štítky depth profiles, TOF spectrometry
Příznaky Mezinárodní význam, Recenzováno
Změnil Změnil: prof. Mgr. Petr Vašina, Ph.D., učo 21782. Změněno: 14. 1. 2009 17:00.
Anotace
Ionization Processes and Plasma Chemistry in Pulsed RF Glow Discharge TOF Mass Spectroscopy for Thin Film Depth Profile Analyses, proceeding
Anotace česky
Ionizační procesy a plazmová chemie v pulzním RF výboji TOF hmotnostního spektrometru užitá pro hloubkové profily tenkých vrstev, sborník
Návaznosti
MSM0021622411, záměrNázev: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
VytisknoutZobrazeno: 19. 7. 2024 10:18