VAŠINA, Petr a Pavel DVOŘÁK. Harmonic analysis of discharge voltages as a tool to control the RF sputtering deposition process. Europhysics Letters, European Physical Society, 2009, roč. 85, č. 1, s. 15002-15006. ISSN 0295-5075.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Harmonic analysis of discharge voltages as a tool to control the RF sputtering deposition process
Název česky Analýza harmonických složek napětí v plazmatu jako nástroj kontrolu vf. naprašování
Autoři VAŠINA, Petr (203 Česká republika, garant) a Pavel DVOŘÁK (203 Česká republika).
Vydání Europhysics Letters, European Physical Society, 2009, 0295-5075.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Francie
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Impakt faktor Impact factor: 2.893
Kód RIV RIV/00216224:14310/09:00029226
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
UT WoS 000263692500019
Klíčová slova anglicky higher harmonics; plasma; discharge; reactive sputtering; magnetron
Štítky discharge, higher harmonics, magnetron, plasma, reactive sputtering
Příznaky Mezinárodní význam, Recenzováno
Změnil Změnil: prof. Mgr. Petr Vašina, Ph.D., učo 21782. Změněno: 24. 6. 2009 14:05.
Anotace
The reactive magnetron sputtering deposition process controlled by the flow of the reactive gas exhibits processing stability problems. Since the optimal experimental conditions lie very close to the abrupt transition from the metallic to the compound mode, the range at which the films with the right stoichiometry are deposited at high deposition rates is strongly limited and permanent process monitoring is necessary. A sensitive method for the process monitoring is proposed which is based on the measurement of amplitudes of fundamental or higher harmonic frequencies of discharge voltages during the radio-frequency sputtering deposition process. The voltage waveform recorded by the uncompensated probe placed in the vicinity of the plasma contains much higher relative proportion of higher harmonics than the waveform measured on the cathode. Some of the harmonics are extremely sensitive markers of the transition between the two regimes of interest. For example, the amplitude of some harmonics measured by the probe change severalfold by the transition compared to the conventionally used bias on the cathode, which changes typically only by a few percents. The proposed method can even reach the sensitivity of optical emission spectroscopy mainly for reactive sputtering of those elements whose sputtering yield does not differ substantially in the metallic and in the compound state.
Anotace česky
Popis velmi citlivé metody monitorování stavu vysokofrekvenčního reaktivního magnetronového naprašování pomocí sledování amplitud vyšších harmonických frekvencí generovaných výbojem.
Návaznosti
GP202/08/P038, projekt VaVNázev: Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
Investor: Grantová agentura ČR, Postdoktorské projekty
MSM0021622411, záměrNázev: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Výzkumné záměry
VytisknoutZobrazeno: 10. 4. 2020 08:47