Detailed Information on Publication Record
2009
Optical Characterization of Ultra-Thin Iron and Iron Oxide Films
NEČAS, David, Lenka ZAJÍČKOVÁ, Daniel FRANTA, Pavel SŤAHEL, Petr MIKULÍK et. al.Basic information
Original name
Optical Characterization of Ultra-Thin Iron and Iron Oxide Films
Name in Czech
Optická charakterizace ultratenkých vrstev železa a kysličníků železa
Authors
NEČAS, David (203 Czech Republic, belonging to the institution), Lenka ZAJÍČKOVÁ (203 Czech Republic, guarantor, belonging to the institution), Daniel FRANTA (203 Czech Republic, belonging to the institution), Pavel SŤAHEL (203 Czech Republic, belonging to the institution), Petr MIKULÍK (203 Czech Republic), Mojmír MEDUŇA (203 Czech Republic, belonging to the institution) and Miroslav VALTR (203 Czech Republic)
Edition
e-Journal of Surface Science and Nanotechnology, Tokyo, The Surface Science Society of Japan, 2009, 1348-0391
Other information
Language
English
Type of outcome
Článek v odborném periodiku
Field of Study
10302 Condensed matter physics
Country of publisher
Japan
Confidentiality degree
není předmětem státního či obchodního tajemství
RIV identification code
RIV/00216224:14310/09:00028505
Organization unit
Faculty of Science
Keywords (in Czech)
železo; kysličník železa; elipsometrie; spektrofotometrie; odrazivost Röntgenových paprsků
Keywords in English
iron; iron oxide; thin films; ellipsometry; spectrophotometry; X-ray reflection
Tags
International impact, Reviewed
Změněno: 27/3/2013 09:17, doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D.
V originále
Ultra-thin films of 57Fe deposited on silicon substrates and SiOxCyHz support layers and subsequently oxidized in laboratory atmosphere are studied by two optical methods: the combination of UV/VIS/NIR spectroscopic ellipsometry and spectrophotometry, used to find layer thicknesses and optical constants, and X-ray specular reflectometry, used to obtain the electron density depth profile. The results of both methods are compared and found to be in a relatively good agreement.
In Czech
Velmi tenké vrstvy 57Fe připravené na křemíkových podložkách a podpůrných vrstvách z SiOxCyHz a následně okysličené v laboratorní atmosféře jsou studovány pomocí dvou optických metod: kombinace UV/vis/NIR spektroskopické elipsometri a spektrofotometrie, použité k nalezení tloušťek a optických konstant, a odrazivosti Röntgenových paprsků, použité k získání profilu elektronové hustoty. Výsledky obou metod jsou srovnány a shledány býti v poměrně dobré shodě.
Links
| KAN311610701, research and development project |
| ||
| MSM0021622410, plan (intention) |
| ||
| MSM0021622411, plan (intention) |
|