NEČAS, David, Lenka ZAJÍČKOVÁ, Daniel FRANTA, Pavel SŤAHEL, Petr MIKULÍK, Mojmír MEDUŇA a Miroslav VALTR. Optical Characterization of Ultra-Thin Iron and Iron Oxide Films. e-Journal of Surface Science and Nanotechnology. Tokyo: The Surface Science Society of Japan, roč. 7, březen, s. 486-490. ISSN 1348-0391. 2009.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Optical Characterization of Ultra-Thin Iron and Iron Oxide Films
Název česky Optická charakterizace ultratenkých vrstev železa a kysličníků železa
Autoři NEČAS, David (203 Česká republika, domácí), Lenka ZAJÍČKOVÁ (203 Česká republika, garant, domácí), Daniel FRANTA (203 Česká republika, domácí), Pavel SŤAHEL (203 Česká republika, domácí), Petr MIKULÍK (203 Česká republika), Mojmír MEDUŇA (203 Česká republika, domácí) a Miroslav VALTR (203 Česká republika).
Vydání e-Journal of Surface Science and Nanotechnology, Tokyo, The Surface Science Society of Japan, 2009, 1348-0391.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor 10302 Condensed matter physics
Stát vydavatele Japonsko
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14310/09:00028505
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Klíčová slova česky železo; kysličník železa; elipsometrie; spektrofotometrie; odrazivost Röntgenových paprsků
Klíčová slova anglicky iron; iron oxide; thin films; ellipsometry; spectrophotometry; X-ray reflection
Štítky ellipsometry, Iron, iron oxide, Spectrophotometry, thin films, X-ray reflection
Příznaky Mezinárodní význam, Recenzováno
Změnil Změnila: doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D., učo 1414. Změněno: 27. 3. 2013 09:17.
Anotace
Ultra-thin films of 57Fe deposited on silicon substrates and SiOxCyHz support layers and subsequently oxidized in laboratory atmosphere are studied by two optical methods: the combination of UV/VIS/NIR spectroscopic ellipsometry and spectrophotometry, used to find layer thicknesses and optical constants, and X-ray specular reflectometry, used to obtain the electron density depth profile. The results of both methods are compared and found to be in a relatively good agreement.
Anotace česky
Velmi tenké vrstvy 57Fe připravené na křemíkových podložkách a podpůrných vrstvách z SiOxCyHz a následně okysličené v laboratorní atmosféře jsou studovány pomocí dvou optických metod: kombinace UV/vis/NIR spektroskopické elipsometri a spektrofotometrie, použité k nalezení tloušťek a optických konstant, a odrazivosti Röntgenových paprsků, použité k získání profilu elektronové hustoty. Výsledky obou metod jsou srovnány a shledány býti v poměrně dobré shodě.
Návaznosti
KAN311610701, projekt VaVNázev: Nanometrologie využívající metod rastrovací sondové mikroskopie
Investor: Akademie věd ČR, Nanometrologie využívající metod rastrovací sondové mikroskopie
MSM0021622410, záměrNázev: Fyzikální a chemické vlastnosti pokročilých materiálů a struktur
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Fyzikální a chemické vlastnosti pokročilých materiálů a struktur
MSM0021622411, záměrNázev: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
VytisknoutZobrazeno: 29. 3. 2024 12:05