VAŠINA, Petr a Pavel DVOŘÁK. Is it possible to control degree of target poisoning during RF reactive magnetron sputtering by higher harmonic frequencies of discharge voltage? In Frontiers in Low Temperature Plasma Diagnostics 8 - Book of abstracts. Brno: VUT Brno, 2009. s. 74. ISBN 978-80-214-3875-0.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Is it possible to control degree of target poisoning during RF reactive magnetron sputtering by higher harmonic frequencies of discharge voltage?
Název česky Lze kontrolovat otravu terče při magnetronovém naprašování pomocí vyšších harmonických frekvencí výbojového napětí?
Autoři VAŠINA, Petr (203 Česká republika, garant) a Pavel DVOŘÁK (203 Česká republika).
Vydání Brno, Frontiers in Low Temperature Plasma Diagnostics 8 - Book of abstracts, s. 74-74, 2009.
Nakladatel VUT Brno
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Stať ve sborníku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14310/09:00029369
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
ISBN 978-80-214-3875-0
Klíčová slova česky vyšší harmoniky; plazma; magnetron; naprašování
Klíčová slova anglicky higher harmonics; plasma; discharge; reactive sputtering; magnetron
Štítky discharge, higher harmonics, magnetron, plasma, reactive sputtering
Příznaky Mezinárodní význam
Změnil Změnil: doc. Mgr. Pavel Dvořák, Ph.D., učo 16711. Změněno: 24. 6. 2009 13:46.
Anotace
Reactive sputtering controlled by flow of the reactive gas suffers from problems in processing stability caused by an abrupt transition between the metallic and the compound mode. During this transition many important parameters including target composition and gas composition change dramatically. A sensitive monitoring method is proposed which is based on the measurement of amplitudes of fundamental or higher harmonic frequencies of discharge voltages. Voltage waveforms recorded from the cathode and from an uncompensated probe were analyzed. Uncompensated probe exhibited higher sensitivity significantly better than sensitivity of any other known electrical method used for the control of magnetron sputtering process. Moreover, some particular experiments show that the changes in amplitudes of the harmonics by the transition are due to the changes of the target composition rather than due the change of the gas composition.
Anotace česky
Kontrola otrávení terče při magnetronovém naprašování pomocí vyšších harmonických frekvencí napětí.
Návaznosti
GP202/08/P038, projekt VaVNázev: Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
Investor: Grantová agentura ČR, Postdoktorské projekty
MSM0021622411, záměrNázev: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Výzkumné záměry
VytisknoutZobrazeno: 6. 6. 2020 11:18