Detailed Information on Publication Record
2009
Reactive magnetron sputtering - modelling of different target utilization in metallic and compound mode and situation when oxygen and hydrogen are added simultaneously
VAŠINA, Petr and Tereza SCHMIDTOVÁBasic information
Original name
Reactive magnetron sputtering - modelling of different target utilization in metallic and compound mode and situation when oxygen and hydrogen are added simultaneously
Name in Czech
Reaktivní magnetronové naprašování - modelování různého využítí terče a situace když je kyslík a vodík připouštěn současně
Authors
VAŠINA, Petr (203 Czech Republic, guarantor, belonging to the institution) and Tereza SCHMIDTOVÁ (203 Czech Republic, belonging to the institution)
Edition
E-MRS 2009 SYMPOSIUM P Protective coatings and Thin films’09, 2009
Other information
Language
English
Type of outcome
Konferenční abstrakt
Field of Study
10305 Fluids and plasma physics
Country of publisher
France
Confidentiality degree
není předmětem státního či obchodního tajemství
RIV identification code
RIV/00216224:14310/09:00049591
Organization unit
Faculty of Science
Keywords (in Czech)
reaktivní naprašování
Keywords in English
reactive sputtering
Tags
International impact, Reviewed
Změněno: 5/4/2012 14:19, Mgr. Tereza Schmidtová, Ph.D.
V originále
Reactive magnetron sputtering - modelling of different target utilization in metallic and compound mode and situation when oxygen and hydrogen are added simultaneously, proceeding
In Czech
Reaktivní magnetronové naprašování - modelování různého využítí terče a situace když je kyslík a vodík připouštěn současně, sborník
Links
| GP202/08/P038, research and development project |
| ||
| MSM0021622411, plan (intention) |
|