Detailed Information on Publication Record
2009
Higher harmonics of discharge voltage as tool to control accurately state of RF sputtering deposition process
DVOŘÁK, Pavel and Petr VAŠINABasic information
Original name
Higher harmonics of discharge voltage as tool to control accurately state of RF sputtering deposition process
Name in Czech
Přesná kontrola depozičního procesu pomocí vyšších harmonických frekvencí potenciálu plazmatu
Authors
DVOŘÁK, Pavel (203 Czech Republic, belonging to the institution) and Petr VAŠINA (203 Czech Republic, guarantor, belonging to the institution)
Edition
Proceeding of 19th International Symposium on Plasma Chemistry, 2009
Other information
Language
English
Type of outcome
Konferenční abstrakt
Field of Study
10305 Fluids and plasma physics
Country of publisher
Germany
Confidentiality degree
není předmětem státního či obchodního tajemství
RIV identification code
RIV/00216224:14310/09:00049600
Organization unit
Faculty of Science
Keywords (in Czech)
higher harmonics; reactive sputtering
Keywords in English
vyšší harmoniky; reaktivní naprašování
Tags
International impact, Reviewed
Změněno: 12/4/2012 10:46, doc. Mgr. Pavel Dvořák, Ph.D.
V originále
Higher harmonics of discharge voltage as tool to control accurately state of RF sputtering deposition process - proceeding
In Czech
Přesná kontrola depozičního procesu pomocí vyšších harmonických frekvencí potenciálu plazmatu - sborník
Links
| GP202/08/P038, research and development project |
| ||
| MSM0021622411, plan (intention) |
|