TRUNEC, David, Lenka ZAJÍČKOVÁ, Vilma BURŠÍKOVÁ, Filip STUDNIČKA, Pavel SŤAHEL, Vadym PRYSIAZHNYI, Vratislav PEŘINA, Jana HOUDKOVÁ, Zdeněk NAVRÁTIL and Daniel FRANTA. Deposition of hard thin films from HMDSO in atmospheric pressure dielectric barrier discharge. Journal of Physics D: Applied Physics. Bristol, England: IOP Publishing Ltd., 2010, vol. 43, No 22, p. 225403-225410. ISSN 0022-3727.
Other formats:   BibTeX LaTeX RIS
Basic information
Original name Deposition of hard thin films from HMDSO in atmospheric pressure dielectric barrier discharge
Name in Czech Depozice tvrdých tenkých vrstev z HMDSO v dielektrickém bariérovém výboji za atmosférického tlaku
Authors TRUNEC, David (203 Czech Republic, guarantor, belonging to the institution), Lenka ZAJÍČKOVÁ (203 Czech Republic, belonging to the institution), Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Czech Republic, belonging to the institution), Filip STUDNIČKA (203 Czech Republic, belonging to the institution), Pavel SŤAHEL (203 Czech Republic, belonging to the institution), Vadym PRYSIAZHNYI (804 Ukraine, belonging to the institution), Vratislav PEŘINA (203 Czech Republic), Jana HOUDKOVÁ (203 Czech Republic), Zdeněk NAVRÁTIL (203 Czech Republic, belonging to the institution) and Daniel FRANTA (203 Czech Republic, belonging to the institution).
Edition Journal of Physics D: Applied Physics, Bristol, England, IOP Publishing Ltd. 2010, 0022-3727.
Other information
Original language English
Type of outcome Article in a journal
Field of Study 10305 Fluids and plasma physics
Country of publisher United Kingdom of Great Britain and Northern Ireland
Confidentiality degree is not subject to a state or trade secret
WWW URL
Impact factor Impact factor: 2.109
RIV identification code RIV/00216224:14310/10:00043949
Organization unit Faculty of Science
UT WoS 000277871500011
Keywords (in Czech) depozice tenkých vrstev; výboj za atmosférického tlaku
Keywords in English thin film deposition; atmospheric pressure discharge
Tags International impact, Reviewed
Changed by Changed by: doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D., učo 1414. Changed: 27/3/2013 09:10.
Abstract
An atmospheric pressure dielectric barrier discharge burning in nitrogen with a small admixture of hexamethyldisiloxane (HMDSO) was used for the deposition of thin organosilicon films. The thin films were deposited on glass, silicon and polycarbonate substrates, and the substrate temperature during the deposition process was increased up to values within the range 25 - 150 C in order to obtain hard SiOx-like thin films.
Abstract (in Czech)
Dielektrický bariérový výboj hořící za atmosférického tlaku v dusíku s příměsí hexametyldisiloxanu byl použit pro depozici tenkých organosilikonových vrstev. Tenké vrstvy byly deponovány na skleněných, křemíkových a polykarbonátových substrátech a teplota substrátu byla v průběhu depozičního procesu zvýšena na hodnoty v rozmezí 25 - 150 C za účelem získání tvrdých SiOx podobných vrstev-
Links
MSM0021622411, plan (intention)Name: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministry of Education, Youth and Sports of the CR, Study and application of plasma chemical reactions in non-isothermic low temperature plasma and its interaction with solid surface
PrintDisplayed: 7/8/2024 01:33