D 2010

Impact of neutral gas temperatures on reactive magnetron sputtering

SCHMIDTOVÁ, Tereza a Petr VAŠINA

Základní údaje

Originální název

Impact of neutral gas temperatures on reactive magnetron sputtering

Název česky

Vilv teploty neutrálního plynu na reaktivní magnetronové naprašování

Autoři

SCHMIDTOVÁ, Tereza (203 Česká republika) a Petr VAŠINA (203 Česká republika, garant)

Vydání

Plzeň, Potential and Applications of Thin Ceramic and Metal Coatings, od s. 75-76, 2 s. 2010

Nakladatel

University of West Bohemia

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Stať ve sborníku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Kód RIV

RIV/00216224:14310/10:00044481

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

ISBN

978-80-7043-894-7

Klíčová slova česky

magnetronové naprašování, modelování, teplota, hystereze

Klíčová slova anglicky

magnetron sputtering; modelling; temperature; hysteresis
Změněno: 2. 9. 2010 09:02, Mgr. Tereza Schmidtová, Ph.D.

Anotace

ORIG CZ

V originále

Temperature is an important parameter which influences whole sputtering process. A model of reactive magnetron sputtering was used to investigate an effect of different temperatures in reactor during reactive sputtering on a hysteresis behaviour of the sputtering. We report shifts of transitions between two modes of a reactive sputtering process.

Česky

Teplota je důležitým parametrem, který ovlivňuje celý rozprašovací proces. Pro vyšetření vlivu různých teplot v reaktoru na hysterezní chování při procesu rozprašování byl použit model reaktivního magnetronového naprašování. Prezentuje posun ve skocích mezi dvěma módy reaktivního rozprašováního procesu.

Návaznosti

GD104/09/H080, projekt VaV
Název: Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace
Investor: Grantová agentura ČR, Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace
GP202/08/P038, projekt VaV
Název: Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
Investor: Grantová agentura ČR, Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
MSM0021622411, záměr
Název: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Zobrazeno: 17. 11. 2024 04:45