SKÁCELOVÁ, Dana, Pavel SŤAHEL, Martin HANIČINEC a Mirko ČERNÁK. Investigation of silicon surface wettability after plasma treatment. In HAKONE XII Contributed paper. Bratislava: Comenius University, 2010, 307 s. ISBN 978-80-89186-71-6.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Investigation of silicon surface wettability after plasma treatment
Autoři SKÁCELOVÁ, Dana, Pavel SŤAHEL, Martin HANIČINEC a Mirko ČERNÁK.
Vydání Bratislava, HAKONE XII Contributed paper, 307 s. 2010.
Nakladatel Comenius University
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Stať ve sborníku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Slovensko
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
ISBN 978-80-89186-71-6
Klíčová slova anglicky Diffuse coplanar DBD, silicon, plasma treatment
Změnil Změnila: Mgr. Dana Skácelová, Ph.D., učo 106528. Změněno: 5. 4. 2012 16:39.
Anotace
In this contribution the influence of the plasma on crystalline Si (100) surface was studied. Dielectric barrier discharge the so called Diffuse Coplanar Surface Barrier Discharge (DCSBD) to plasma modification was used. The silicon surface modification after plasma treatment was investigated by AFM and contact angle measurement. Different way to clean the surface is reflected on the surface wettability after plasma treatment and the ageing effect of treated surface was studied too.
Návaznosti
KAN101630651, projekt VaVNázev: Tvorba nano-vrstev a nano-povlaků na textiliích s využitím plazmových povrchových úprav za atmosférického tlaku
Investor: Akademie věd ČR, Tvorba nano-vrstev a nano-povlaků na textiliích s využitím plazmových povrchových úprav za atmosférického tlaku
MSM0021622411, záměrNázev: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
VytisknoutZobrazeno: 25. 4. 2024 06:03