Suppressed hysteresis behaviour of Ti sputtering in acetylene gas

SCHMIDTOVÁ, Tereza, Petr VAŠINA a Marek ELIÁŠ. Suppressed hysteresis behaviour of Ti sputtering in acetylene gas. 2010.

Základní údaje

• Originální název: Suppressed hysteresis behaviour of Ti sputtering in acetylene gas
• Název česky: Potlačené hysterezní chování naprašování titanu v acetylenu
• Autoři: SCHMIDTOVÁ, Tereza (203 Česká republika, domácí), Petr VAŠINA (203 Česká republika, garant, domácí) a Marek ELIÁŠ (203 Česká republika, domácí).
• Vydání: 2010.

Další údaje

• Originální jazyk: angličtina
• Typ výsledku: Konferenční abstrakt
• Obor: 10305 Fluids and plasma physics
• Stát vydavatele: Německo
• Utajení: není předmětem státního či obchodního tajemství
• Kód RIV: RIV/00216224:14310/10:00045788
• Organizační jednotka: Přírodovědecká fakulta
• Klíčová slova česky: magnetronové naprašování; hystereze; hybridní PVD-PECVd proces; kontrola řízení
• Klíčová slova anglicky: magnetron sputtering; hysteresis; hybrid PVD-PECVD; process control

Anotace

Suppressed hysteresis behaviour of Ti sputtering in acetylene gas. Modelling of hybrid PVD-PECVD process.

Návaznosti

• GD104/09/H080, projekt VaV: Název: Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace

Investor: Grantová agentura ČR, Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace

• GP202/08/P038, projekt VaV: Název: Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev

Investor: Grantová agentura ČR, Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev

• MSM0021622411, záměr: Název: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek

Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek