a 2010

Suppressed hysteresis behaviour of Ti sputtering in acetylene gas

SCHMIDTOVÁ, Tereza, Petr VAŠINA and Marek ELIÁŠ

Basic information

Original name

Suppressed hysteresis behaviour of Ti sputtering in acetylene gas

Name in Czech

Potlačené hysterezní chování naprašování titanu v acetylenu

Authors

SCHMIDTOVÁ, Tereza (203 Czech Republic, belonging to the institution), Petr VAŠINA (203 Czech Republic, guarantor, belonging to the institution) and Marek ELIÁŠ (203 Czech Republic, belonging to the institution)

Edition

2010

Other information

Language

English

Type of outcome

Konferenční abstrakt

Field of Study

10305 Fluids and plasma physics

Country of publisher

Germany

Confidentiality degree

není předmětem státního či obchodního tajemství

RIV identification code

RIV/00216224:14310/10:00045788

Organization unit

Faculty of Science

Keywords (in Czech)

magnetronové naprašování; hystereze; hybridní PVD-PECVd proces; kontrola řízení

Keywords in English

magnetron sputtering; hysteresis; hybrid PVD-PECVD; process control
Změněno: 4/1/2011 09:37, Mgr. Tereza Schmidtová, Ph.D.

Abstract

V originále

Suppressed hysteresis behaviour of Ti sputtering in acetylene gas. Modelling of hybrid PVD-PECVD process.

Links

GD104/09/H080, research and development project
Name: Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace
Investor: Czech Science Foundation
GP202/08/P038, research and development project
Name: Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
Investor: Czech Science Foundation, Study of hybrid deposition process and its application for thin film deposition
MSM0021622411, plan (intention)
Name: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministry of Education, Youth and Sports of the CR, Study and application of plasma chemical reactions in non-isothermic low temperature plasma and its interaction with solid surface