SKÁCELOVÁ, Dana, Pavel SŤAHEL, Martin HANIČINEC, Pavlína BAŘINKOVÁ and Mirko ČERNÁK. Povrchová plazmová úprava krystalických křemíkových desek určených pro výrobu solárních článků (Plasma treatment of crystalline silicon wafers for production of solar cells). In Czech RE Agency,o.p.s. Sborník příspěvků z 5. České fotovoltaické konference. Brno: Neuveden, 2010, p. 45-49. ISBN 978-80-254-8906-2.
Other formats:   BibTeX LaTeX RIS
Basic information
Original name Povrchová plazmová úprava krystalických křemíkových desek určených pro výrobu solárních článků
Name in Czech Povrchová plazmová úprava krystalických křemíkových desek určených pro výrobu solárních článků
Name (in English) Plasma treatment of crystalline silicon wafers for production of solar cells
Authors SKÁCELOVÁ, Dana (203 Czech Republic, guarantor, belonging to the institution), Pavel SŤAHEL (203 Czech Republic, belonging to the institution), Martin HANIČINEC (703 Slovakia, belonging to the institution), Pavlína BAŘINKOVÁ (203 Czech Republic) and Mirko ČERNÁK (203 Czech Republic, belonging to the institution).
Edition Brno, Sborník příspěvků z 5. České fotovoltaické konference, p. 45-49, 5 pp. 2010.
Publisher Neuveden
Other information
Original language Czech
Type of outcome Proceedings paper
Field of Study 10305 Fluids and plasma physics
Country of publisher Czech Republic
Confidentiality degree is not subject to a state or trade secret
RIV identification code RIV/00216224:14310/10:00049477
Organization unit Faculty of Science
ISBN 978-80-254-8906-2
Keywords (in Czech) Krystalický křemík atmosférické plazma plazmová modifikace povrchu
Keywords in English Crystalline silicon atmospheric pressure plasma surface modification
Tags AKb, rivok
Changed by Changed by: Mgr. Dana Skácelová, Ph.D., učo 106528. Changed: 5/4/2012 16:42.
Abstract
Předkládaný článek se zabývá možností využití plazmatu za atmosférického tlaku v oblasti polovodičového průmyslu, převážně pak v oblasti výroby solárních článků. Byl zkoumán vliv Difúzního Koplanárního Povrchového Výboje (DSCBD - Diffuse Coplanar Surface Barrier Discharge) na změnu povrchových vlastností krystalických křemíkových desek odebraných v různých fázích výroby solárních článků. Zjistilo se, že tato úprava dokonale hydrofilizuje všechny studované povrchy (texturované, leštěné, SOX, Si3N4, po difúzi…). Volná povrchová energie byla studována metodou kontaktních úhlů.
Abstract (in English)
Contribution focused to application of atmospheric plasma in semiconductor industry, especially in production of solar cells. Plasma modification of surface properties of silicon wafers by DCSBD was investigated. This process makes all surfaces totaly wettable. Surface free energy was studied by contact angle measurement.
Links
KAN101630651, research and development projectName: Tvorba nano-vrstev a nano-povlaků na textiliích s využitím plazmových povrchových úprav za atmosférického tlaku
Investor: Academy of Sciences of the Czech Republic, Preparation of nano-films and nano-coatings on textiles using plasma surface treatment at atmospheric pressure
MSM0021622411, plan (intention)Name: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministry of Education, Youth and Sports of the CR, Study and application of plasma chemical reactions in non-isothermic low temperature plasma and its interaction with solid surface
PrintDisplayed: 24/7/2024 23:17