DVOŘÁK, Pavel, Radek ŽEMLIČKA, Petr VAŠINA a Vilma BURŠÍKOVÁ. Application of higher harmonic frequencies generated in RF plasmas for monitoring of deposition processes. In Potential and Application of Nanotreatment of amedical Surfaces. 2011.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Application of higher harmonic frequencies generated in RF plasmas for monitoring of deposition processes
Název česky Aplikace vyšších harmonických frekvencí vznikajících ve vf. plazmatu pro monitorování depozičních procesů
Autoři DVOŘÁK, Pavel (203 Česká republika, garant), Radek ŽEMLIČKA (203 Česká republika, domácí), Petr VAŠINA (203 Česká republika, domácí) a Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Česká republika, domácí).
Vydání Potential and Application of Nanotreatment of amedical Surfaces, 2011.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Konferenční abstrakt
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14310/11:00050417
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Klíčová slova česky vyšší harmonické frekvence; kapacitně vázané výboje
Klíčová slova anglicky higher harmonic frequencies; capacitively coupled discharges
Změnil Změnil: doc. Mgr. Pavel Dvořák, Ph.D., učo 16711. Změněno: 26. 1. 2012 14:23.
Anotace
Higher harmonic frequencies of discharge voltage or current were analyzed and used for monitoring of various deposition techniques. It was shown that higher harmonics sensitively react on creation of a thin film, which can be used for simple monitoring of plasma processes.
Anotace česky
Analýza vyšších harmonických frekvencí vznikajících ve vf. plazmatu s ohledem na jejich využití při monitorování plazmových procesů.
Návaznosti
GA202/07/1669, projekt VaVNázev: Depozice termomechanicky stabilních nanostrukturovaných diamantu-podobných tenkých vrstev ve dvojfrekvenčních kapacitních výbojích
Investor: Grantová agentura ČR, Depozice termomechanicky stabilních nanostrukturovaných diamantu-podobných tenkých vrstev ve dvojfrekvenčních kapacitních výbojích
MSM0021622411, záměrNázev: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
VytisknoutZobrazeno: 28. 3. 2024 10:24