VORÁČ, Jan, Pavel DVOŘÁK a Vojtěch PROCHÁZKA. MEASUREMENT OF ABSOLUTE DENSITY OF OH RADICALS IN AN ATMOSPHERIC PLASMA PENCIL BY LASER-INDUCED FLUORESCENCE. In ICOPS 2012. 2012.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název MEASUREMENT OF ABSOLUTE DENSITY OF OH RADICALS IN AN ATMOSPHERIC PLASMA PENCIL BY LASER-INDUCED FLUORESCENCE
Autoři VORÁČ, Jan (203 Česká republika, garant, domácí), Pavel DVOŘÁK (203 Česká republika, domácí) a Vojtěch PROCHÁZKA (203 Česká republika, domácí).
Vydání ICOPS 2012, 2012.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Konferenční abstrakt
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Velká Británie
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
WWW book of abstracts
Kód RIV RIV/00216224:14310/12:00060797
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Klíčová slova anglicky Laser induced fluorescence atmospheric pressure plasma plasma jet hydroxyl radical OH concentration
Štítky concentration, hydroxyl, laser-induced fluorescence, LIF, OH
Příznaky Mezinárodní význam
Změnil Změnil: Mgr. Jan Voráč, Ph.D., učo 175282. Změněno: 20. 3. 2013 09:36.
Anotace
OH radical has been in the scope of scientists for a long time, because it allows to track important chemical processes. It is also expected to play an important role in the plasma material processing and the interaction of plasma with living cells. The group in Bielefeld have come with an easy-to-use simu- lation environment LASKIN1. This allows to take into ac- count electronic quenching, rotational and vibrational energy transfer (RET and VET), but one needs to know the relative densities of collision partners. Another appreciable contribution to understanding the LIF of OH radical was brought by Crosley and Luque and their program LIFBASE2. Based on their results, we have tried to develop a method that would work even if the composition of plasma is not known.
Návaznosti
CZ.1.05/2.1.00/03.0086, interní kód MUNázev: CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy, 2.1 Regionální VaV centra
ED2.1.00/03.0086, projekt VaVNázev: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
VytisknoutZobrazeno: 18. 5. 2022 07:31