Výpis publikací

VALTR, Miroslav, Ivan OHLÍDAL a Petr KLAPETEK. AFM Study of Hydrocarbon Thin Films. In WDS'05 Proceedings of Contributed Papers: Part II - Physics of Plasmas and Ionized Media (ed. J. Safrankova). Praha: Matfyzpress, 2005, s. 391-396. ISBN 80-86732-59-2.

VALTR, Miroslav, Lenka ZAJÍČKOVÁ a Vilma BURŠÍKOVÁ. Dependence of the Normalized Absorbance of the DLC:SiOx Thin Films on the Flow Rate of HMDSO. In JUNIORMAT 03. 1. vyd. Brno: ÚMI VUT FSI v Brně ve spolupráci s Českou společností pro nové materiály a technologie, 2003, s. 58-59. ISBN 80-214-2462-1.

VALTR, Miroslav, Lenka ZAJÍČKOVÁ a Siegmar RUDAKOWSKI. Thin Films Deposited from Ar/C2H2 by Pulsed RF PECVD: Deposition Profiles in Tubular Plug-Flow Reactor. In JUNIORMAT 01. 1. vyd. Brno: ÚMI VUT FSI v Brně ve spolupráci s Českou společností pro nové materiály a technologie, 2001, s. 277-278. ISBN 80-214-1885-0.