SKÁCELOVÁ, Dana a Pavel SLAVÍČEK. Characterization of plasma pencil pulsed discharge. IEEE Transactions on Plasma Science. 2012, roč. 40, č. 11, s. 2920-2924. ISSN 0093-3813. Dostupné z: https://dx.doi.org/10.1109/TPS.2012.2213275.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Characterization of plasma pencil pulsed discharge
Autoři SKÁCELOVÁ, Dana (203 Česká republika, garant) a Pavel SLAVÍČEK (203 Česká republika, domácí).
Vydání IEEE Transactions on Plasma Science, 2012, 0093-3813.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Spojené státy
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
WWW URL
Impakt faktor Impact factor: 0.868
Kód RIV RIV/00216224:14310/12:00061193
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Doi http://dx.doi.org/10.1109/TPS.2012.2213275
UT WoS 000311353200022
Klíčová slova česky Atmosférické plazma; frekvenční modulace; diagnostika plazmatu; spektroskopie
Klíčová slova anglicky Atmospheric-pressure plasma; frequency modulation; plasma diagnostics; plasma source; spectroscopy
Štítky AKR, rivok
Příznaky Mezinárodní význam
Změnil Změnila: Mgr. Dana Skácelová, Ph.D., učo 106528. Změněno: 25. 6. 2013 10:46.
Anotace
In this paper, the optical emission spectroscopy (OES) of plasma pencil generated at atmospheric pressure with pulsed voltage was studied. Single-electrode and two-electrode configurations to approximate the conditions during various material treatment have been compared. By means of time-resolved OES, particle behavior during pulse duration, particularly atomic and molecular components represented by Ar lines and OH band, has been studied. The axial distribution of the rotational and the electron temperature showed that the presence of conductive material in plasma jet increased the rotational and electron temperature and even influenced the particle behavior inside the plasma nozzle. Furthermore, it was found that rotational temperature can be easily controlled by the duty cycle.
Návaznosti
ED2.1.00/03.0086, projekt VaVNázev: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
VytisknoutZobrazeno: 26. 4. 2024 19:52