J 2013

PECVD of nanostructured SiO2 in a modulated microwave plasma jet at atmospheric pressure

HNILICA, Jaroslav; Jan SCHÄFER; Rüdiger FOEST; Lenka ZAJÍČKOVÁ; Vít KUDRLE et al.

Základní údaje

Originální název

PECVD of nanostructured SiO2 in a modulated microwave plasma jet at atmospheric pressure

Autoři

HNILICA, Jaroslav; Jan SCHÄFER; Rüdiger FOEST; Lenka ZAJÍČKOVÁ a Vít KUDRLE

Vydání

J. Phys. D: Appl. Phys. 2013, 0022-3727

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Velká Británie a Severní Irsko

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Odkazy

Impakt faktor

Impact factor: 2.521

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/13:00068976

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

DOI

UT WoS

Klíčová slova anglicky

PECVD; modulated; microwave; plasma jet; atmospheric pressure

Štítky

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 14. 7. 2015 10:14, Olga Křížová

Anotace

V originále

We performed the thin films deposition using atmospheric pressure plasma enhanced chemical vapour deposition (AP-PECVD) by means of a microwave plasma jet operating with mixtures of argon and tetrakis(trimethylsilyloxy)silane (TTMS).

Návaznosti

ED1.1.00/02.0068, projekt VaV
Název: CEITEC - central european institute of technology
ED2.1.00/03.0086, projekt VaV
Název: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
7AMB12DE005, projekt VaV
Název: Samoorganizace a procesy strukturalizace v plazmochemické depozici tenkých vrstev
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Samoorganizace a procesy strukturalizace v plazmochemické depozici tenkých vrstev

Přiložené soubory

ZVV_2013_1118531_PECVD.pdf
Požádat o autorskou verzi souboru