BURŠÍKOVÁ, Vilma, Marie HARTMANOVÁ, Vladislav NAVRÁTIL a C. MANSILLA. Influence of deposition conditions on electrical and mechanical properties of Sm2O3 doped CeO2 thin films prepared by EB-PVD (+IBAD) methods part 2. Indentation hardness and effective elastic modulus. Russian Journal of Electrochemistry. Pleiades Publishing, Ltd., 2013, roč. 49, č. 7, s. 619-627. ISSN 1023-1935. Dostupné z: https://dx.doi.org/10.1134/S1023193513070033.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Influence of deposition conditions on electrical and mechanical properties of Sm2O3 doped CeO2 thin films prepared by EB-PVD (+IBAD) methods part 2. Indentation hardness and effective elastic modulus
Název česky Vliv depozičních podmínek na elektrické a mechanické vlastností tenkých CeO2 vrstev dopovaných s Sm2O3 připravených metodami EB-PVD (+IBAD) 2. část Indentační tvrdost a efektivní elastický modul
Autoři BURŠÍKOVÁ, Vilma (203 Česká republika, garant, domácí), Marie HARTMANOVÁ (703 Slovensko), Vladislav NAVRÁTIL (203 Česká republika, domácí) a C. MANSILLA (724 Španělsko).
Vydání Russian Journal of Electrochemistry, Pleiades Publishing, Ltd. 2013, 1023-1935.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Rusko
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Impakt faktor Impact factor: 0.660
Kód RIV RIV/00216224:14310/13:00070881
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Doi http://dx.doi.org/10.1134/S1023193513070033
UT WoS 000321773800003
Klíčová slova česky mechanické vlastnosti; tvrdost; elastický modul; nanoindentace; tenké vrstvy; CeO2; Sm2O3; dopování
Klíčová slova anglicky mechanical properties; hardness; elastic modulus; nanoindentation; thin films; CeO2; Sm2O3; doping
Štítky AKR, rivok
Příznaky Mezinárodní význam, Recenzováno
Změnil Změnila: Dana Nesnídalová, učo 831. Změněno: 1. 4. 2019 12:24.
Anotace
The study of polycrystalline CeO2 + xSm2O3 (x = 0, 10.9–15.9 mol %) thin films deposited by Electron Beam Physical Vapour Deposition (EBPVD) and Ionic Beam Assisted Deposition (IBAD) techniques on the Si substrate was devoted to the influence of deposition conditions used, namely composition x, deposition temperature Tdep and Ar+ ion bombardment, on the (micro)hardness, Hpl and elastic modulus,Y with respect to the film structure and microstructure. These mechanical characteristics were investigated by the instrumented indentation technique as the functions of relative indentation depth hrel = hmax/t and the values obtained were compared with those obtained by the classical Vickers technique. Results of this study are described and discussed.
Anotace česky
Práce byla zaměřená na studium polykrystalických tenkých vrstev CeO2 + xSm2O3 (x = 0, 10.9–15.9 mol %) deponovaných metodou EBPVD a IBAD technikami na křemíkové substráty. Soustředí se hlavně na stanovení vlivu depozičních podmínek, jako jsou složení x, depoziční teplota Tdep a iontový bombard Ar+ , na (mikro)tvrdost (micro), Hpl a elastický modul,Y s ohledem na struktura a složení vrstev. Tyto mechanické charakteristiky byly studovány metodou instrumentované vtiskové zkoušky. Hodnoty tvrdostí byly srovnávány s hodnotami obdrženými na základě klasické Vickersovy zkoušky.
VytisknoutZobrazeno: 18. 7. 2024 12:35