J 2014

Generation of Large-Area Highly-Nonequlibrium Plasma in Pure Hydrogen at Atmospheric Pressure

PRYSIAZHNYI, Vadym, Antonín BRABLEC, Jan ČECH, Monika STUPAVSKÁ, Mirko ČERNÁK et. al.

Základní údaje

Originální název

Generation of Large-Area Highly-Nonequlibrium Plasma in Pure Hydrogen at Atmospheric Pressure

Autoři

PRYSIAZHNYI, Vadym (804 Ukrajina, domácí), Antonín BRABLEC (203 Česká republika, garant, domácí), Jan ČECH (203 Česká republika, domácí), Monika STUPAVSKÁ (703 Slovensko, domácí) a Mirko ČERNÁK (703 Slovensko, domácí)

Vydání

Contributions to Plasma Physics, 2014, 0863-1042

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Německo

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Impakt faktor

Impact factor: 0.838

Kód RIV

RIV/00216224:14310/14:00075176

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

UT WoS

000331954300005

Klíčová slova anglicky

diffuse coplanar surface barrier discharge; DCSBD; large area; hydrogen; plasma reduction; oxide reduction; copper

Štítky

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 13. 4. 2015 14:44, Ing. Andrea Mikešková

Anotace

V originále

Diffuse Coplanar Surface Barrier Discharge (DCSBD) is a novel type of atmospheric-pressure plasma source developed for high-speed large-area surface plasma treatments. Basic characteristics of DCSBD burning in pure atmospheric-pressure hydrogen were measured using optical and emission spectroscopy methods, and its potential for the surface treatment application was demonstrated by hydrogen plasma reduction of Cu2O thin layers. The discharge generates a thin layer of diffuse non-equilibrium plasma with a high power density of 75W.cm^-3 . The mean electron density and electron temperature derived by the spectroscopy data were 1.3x10^16 cm^-3 and 19x10^3 K, and the surface Cu2O layers forming a weak boundary were reduced to metallic copper within several seconds.

Návaznosti

ED2.1.00/03.0086, projekt VaV
Název: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
EE2.3.30.0009, projekt VaV
Název: Zaměstnáním čerstvých absolventů doktorského studia k vědecké excelenci