Zařízení pro měření rekombinačních procesů v epitaxních vrstvách křemíku
BOČÁNEK, Luděk a Josef HUMLÍČEK. Zařízení pro měření rekombinačních procesů v epitaxních vrstvách křemíku. 2014. |
Další formáty:
BibTeX
LaTeX
RIS
|
Základní údaje | |
---|---|
Originální název | Zařízení pro měření rekombinačních procesů v epitaxních vrstvách křemíku |
Název anglicky | Apparatus for measuring recombinant processes in silicon epitaxial layers |
Autoři | BOČÁNEK, Luděk (203 Česká republika, domácí) a Josef HUMLÍČEK (203 Česká republika, garant, domácí). |
Vydání | 2014. |
Další údaje | |
---|---|
Originální jazyk | čeština |
Typ výsledku | Výsledky s právní ochranou |
Obor | 10302 Condensed matter physics |
Stát vydavatele | Česká republika |
Utajení | není předmětem státního či obchodního tajemství |
Kód RIV | RIV/00216224:14310/14:00073273 |
Organizační jednotka | Přírodovědecká fakulta |
Klíčová slova česky | epitaxní křemíkové vrstvy; rekombinace; doba života |
Klíčová slova anglicky | epitaxial silicon layers; recombination; carrier lifetime |
Štítky | AKR, rivok |
Změnil | Změnila: Ing. Andrea Mikešková, učo 137293. Změněno: 2. 4. 2015 15:01. |
Anotace |
---|
Zařízení pro sledování rekombinačních procesů v epitaxních vrstvách křemíku umožňuje měřit elektrické proudy napříč strukturou. Pro měření proudů se využívá kontakt epitaxní vrstvy s polopropustnou kovovou elektrodou, přes kterou jsou nosiče excitovány světelnými pulsy vycházejícími z optického vlákna. |
Anotace anglicky |
---|
Equipment for monitoring recombination processes in the epitaxial silicon layers is designed to measure electrical currents across the structure. The contact of epitaxial layer with a semitransparent metal electrode is used to measure the current of carriers excited by light pulses from an optical fiber. |
Návaznosti | |
---|---|
TA01010078, projekt VaV | Název: Struktury SOI pro pokročilé polovodičové aplikace (Akronym: ONSEMI) |
Investor: Technologická agentura ČR, Struktury SOI pro pokročilé polovodičové aplikace |
VytisknoutZobrazeno: 27. 4. 2024 22:00