JOSEPSON, Raavo, Zdeněk NAVRÁTIL, Lenka DOSOUDILOVÁ a David TRUNEC. Time Resolved Imaging of Atmospheric Pressure Radio Frequency Discharge in Neon and Helium. In The XXII Europhysics Conference on Atomic and Molecular Physics of Ionized Gases (ESCAMPIG) 2014. 2014. ISBN 2-914771-86-X.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Time Resolved Imaging of Atmospheric Pressure Radio Frequency Discharge in Neon and Helium
Autoři JOSEPSON, Raavo (233 Estonsko, garant), Zdeněk NAVRÁTIL (203 Česká republika, domácí), Lenka DOSOUDILOVÁ (203 Česká republika, domácí) a David TRUNEC (203 Česká republika, domácí).
Vydání The XXII Europhysics Conference on Atomic and Molecular Physics of Ionized Gases (ESCAMPIG) 2014, 2014.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Konferenční abstrakt
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Německo
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14310/14:00076037
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
ISBN 2-914771-86-X
Klíčová slova anglicky radio-frequency discharge; atmospheric pressure; neon; helium; time resolved spectroscopy
Změnil Změnil: prof. RNDr. David Trunec, CSc., učo 1597. Změněno: 20. 7. 2015 12:02.
Anotace
The atmospheric pressure radio-frequency discharge in helium and neon was studied in a plane-to-plane gap by an ICCD camera. In both gases the discharges burned in homogeneous-mode. The full color time resolved pictures showed that the atomic excitations are similar in both gases, but the molecular emissions are different. A time shift was recorded between emissions of the atomic and molecular bands.
Anotace česky
Radiofrekvenční výboj za atmosférického tlaku v héliu a neonu byl studován v rovinné konfiguraci pomocí ICCD kamery. V obou plynech výboj hořel v homogenním módu. Časově rozlišené barevné snímky ukazují, že excitace atomů jsou obdobné v obou plynech podobné, zatímco excitace molekul nejsou. Byl zaznamenán časový posuv mezi excitacemi atomů a molekul.
Návaznosti
ED2.1.00/03.0086, projekt VaVNázev: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
EE2.3.30.0009, projekt VaVNázev: Zaměstnáním čerstvých absolventů doktorského studia k vědecké excelenci
VytisknoutZobrazeno: 11. 9. 2024 18:18