FRANTA, Daniel, David NEČAS, Lenka ZAJÍČKOVÁ a Ivan OHLÍDAL. Broadening of dielectric response and sum rule conservation. Thin Solid Films. Lausanne: Elsevier Science, 2014, roč. 571, November, s. 496-501. ISSN 0040-6090. Dostupné z: https://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2013.11.148.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Broadening of dielectric response and sum rule conservation
Autoři FRANTA, Daniel (203 Česká republika, garant, domácí), David NEČAS (203 Česká republika, domácí), Lenka ZAJÍČKOVÁ (203 Česká republika, domácí) a Ivan OHLÍDAL (203 Česká republika, domácí).
Vydání Thin Solid Films, Lausanne, Elsevier Science, 2014, 0040-6090.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor 10302 Condensed matter physics
Stát vydavatele Švýcarsko
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
WWW URL
Impakt faktor Impact factor: 1.759
Kód RIV RIV/00216224:14310/14:00079589
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Doi http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2013.11.148
UT WoS 000346055200028
Klíčová slova anglicky Dielectric response; Dispersion model; Broadening; Sum rule
Štítky AKR, kontrola MP, podil, rivok
Příznaky Mezinárodní význam, Recenzováno
Změnil Změnila: Martina Prášilová, učo 342282. Změněno: 18. 3. 2015 10:17.
Anotace
Different types of broadening of the dielectric response are studied with respect to the preservation of the Thomas-Reiche-Kuhn sum rule. It is found that only the broadening of the dielectric function and transition strength function conserve this sum rule, whereas the broadening of the transition probability function (joint density of states) increases or decreases the sum. The effect of different kinds of broadening is demonstrated for interband and intraband direct electronic transitions using simplified rectangular models. It is shown that the broadening of the dielectric function is more suitable for interband transitions while broadening of the transition strength function is more suitable for intraband transitions. (C) 2013 Elsevier B.V. All rights reserved.
Návaznosti
ED1.1.00/02.0068, projekt VaVNázev: CEITEC - central european institute of technology
ED2.1.00/03.0086, projekt VaVNázev: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
VytisknoutZobrazeno: 10. 6. 2024 23:42