J 2015

Energy efficiency of planar discharge for industrial applications

KELAR, Jakub, Jan ČECH a Pavel SLAVÍČEK

Základní údaje

Originální název

Energy efficiency of planar discharge for industrial applications

Název česky

Energetická účinnost planárního výboje pro průmyslové aplikace

Autoři

KELAR, Jakub (203 Česká republika, garant, domácí), Jan ČECH (203 Česká republika, domácí) a Pavel SLAVÍČEK (203 Česká republika, domácí)

Vydání

Acta Polytechnica, ČVUT, 2015, 1210-2709

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Odkazy

Kód RIV

RIV/00216224:14310/15:00080395

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

DOI

UT WoS

000433699100006

Klíčová slova česky

dielektrický bariérový výboj; DCSBD; elektrická účinnost; odhad výkonu; chybová analýza

Klíčová slova anglicky

dielectric barrier discharge; DCSBD; electrical efficiency; power estimation; error analysis

Štítky

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 25. 6. 2020 14:30, Mgr. Marie Šípková, DiS.

Anotace

ORIG CZ

V originále

Diffuse Coplanar Surface Barrier Discharge has proven its capabilities as an industry-ready plasma source for fast, in-line and efficient plasma treatment at atmospheric pressure. One parameter required by industry is energy efficiency of the device. In this paper, we present the energy efficiency of the whole plasma system, and we investigate possible sources of errors.

Česky

Difuzní koplanární povrchový bariérový výboj se osvšdčil jako "industry-ready" plazmový zdroj pro rychlé, in-line a efektivní plazmové úpravy za atmosférického tlaku. Jedním z parametrů vyžadovaných v průmyslu je energetická účinnost zařízení. V tomto článku uvádíme energiovou účinnost celého plazmového systému a vyšetřujeme možné zdroje chyb tohoto stanovení.

Návaznosti

ED2.1.00/03.0086, projekt VaV
Název: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
GA13-24635S, projekt VaV
Název: Spektroskopické studium rekombinace povrchového náboje v dielektrických bariérových výbojích
Investor: Grantová agentura ČR, Spektroskopické studium rekombinace povrchového náboje v dielektrických bariérových výbojích
LO1411, projekt VaV
Název: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
TA02010412, projekt VaV
Název: Zlepšení klíčivosti semen účinkem nízkoteplotního plazmatu
Investor: Technologická agentura ČR, Zlepšení klíčivosti semen účinkem nízkoteplotního plazmatu