KLEIN, Peter, Jaroslav HNILICA, Petr VAŠINA, Zdeněk HUBIČKA a Martin ČADA. Cathode voltage and discharge current oscillations and spoke behavior during HiPIMS discharge. In Sixth International Conference on Fundamentals and Industrial Applications of HIPIMS. 2015.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Cathode voltage and discharge current oscillations and spoke behavior during HiPIMS discharge
Autoři KLEIN, Peter (703 Slovensko, domácí), Jaroslav HNILICA (203 Česká republika, domácí), Petr VAŠINA (203 Česká republika, garant, domácí), Zdeněk HUBIČKA (203 Česká republika) a Martin ČADA (203 Česká republika).
Vydání Sixth International Conference on Fundamentals and Industrial Applications of HIPIMS, 2015.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Prezentace na konferencích
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Německo
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14310/15:00081043
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Klíčová slova anglicky HIPIMS;spoke;oscillation
Příznaky Mezinárodní význam
Změnil Změnil: doc. Mgr. Jaroslav Hnilica, Ph.D., učo 106259. Změněno: 7. 12. 2015 11:00.
Anotace
The spokes presence and their behavior were studied by high-speed imaging. The spoke appearance was strongly dependent on the pressure. At very low pressure, the triangular spoke shape was well recognized but with increasing pressure the shape became diffusive. Overreaching 2 Pa there was no spokes recognizable. Camera enables to record two successive images from the same pulse with time delay of 3 µs.Spoke rotation velocity and frequency was derived from the spoke image shift in the pressure range 0.18-0.5 Pa, where the spokes were well distinguished. The spoke characteristic frequency was arbitrary determined as multiplication of number of spokes with rotation frequency and ranges from 77 to 178 kHz. Spoke characteristic frequency is in the same order of magnitude as observed oscillations on cathode voltage and discharge current, nevertheless they are not identical. Spoke characteristic frequency is 3-4 times lower than the frequency of the oscillations.
Návaznosti
ED2.1.00/03.0086, projekt VaVNázev: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
GAP205/12/0407, projekt VaVNázev: Porozumění hybridnímu PVD-PECVD procesu s cílem řídit růst nanostrukturovaných kompozitních vrstev
Investor: Grantová agentura ČR, Porozumění hybridnímu PVD-PECVD procesu s cílem řídit růst nanostrukturovaných kompozitních vrstev
GA15-00863S, projekt VaVNázev: Studium impulzních plazmatických systémů k depozici tenkých vrstev pro fotonické aplikace
Investor: Grantová agentura ČR, Studium impulzních plazmatických systémů k depozici tenkých vrstev pro fotonické aplikace
LO1411, projekt VaVNázev: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
VytisknoutZobrazeno: 26. 4. 2024 08:46