DVOŘÁK, Pavel a Marek TALÁBA. Detection of hydrogen radicals in a dielectric barrier discharge by laser-induced fluorescence. In ICPIG - International Conference on Phenomena in Ionized Gases. 2015.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Detection of hydrogen radicals in a dielectric barrier discharge by laser-induced fluorescence
Název česky Detekce vodíkových radikálů v dielektrickém bariérovém výboji pomocí laserem indukované fluorescence
Autoři DVOŘÁK, Pavel (203 Česká republika, domácí) a Marek TALÁBA (703 Slovensko, garant).
Vydání ICPIG - International Conference on Phenomena in Ionized Gases, 2015.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Konferenční abstrakt
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Rumunsko
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14310/15:00081153
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Klíčová slova česky plazma; DBD; vodík; TALIF
Klíčová slova anglicky plasma; DBD; hydrogen; TALIF
Štítky AKR
Příznaky Mezinárodní význam, Recenzováno
Změnil Změnila: Ing. Andrea Mikešková, učo 137293. Změněno: 28. 4. 2016 15:02.
Anotace
Absolute atomic hydrogen densities were measured by two-photon absorption laser-induced fluorescence (TALIF) in a volume dielectric barrier discharge, which was ignited in a mixture of argon and hydrogen in a plasma reactor at atmospheric pressure. Hydrogen atoms were excited by laser radiation with the wavelength 205 nm. We identified the main fluorescence parameters, e.g. the degree of saturation, the spectral profile of the absorption line and the dependency of the signal on the discharge phase. The calibration was done using TALIF of krypton with the 204 nm wavelength. The absolute concentrations of atomic hydrogen were determined based on different parameters of the system, e.g. the flow rate of the studied gases and the generator voltage.
Anotace česky
Měření koncentrace jednoatomových radikálů vodíku pomocí TALIF v dielektrickém bariérovém výboji.
Návaznosti
ED2.1.00/03.0086, projekt VaVNázev: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
GA13-24635S, projekt VaVNázev: Spektroskopické studium rekombinace povrchového náboje v dielektrických bariérových výbojích
Investor: Grantová agentura ČR, Spektroskopické studium rekombinace povrchového náboje v dielektrických bariérových výbojích
LO1411, projekt VaVNázev: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
7AMB14SK204, projekt VaVNázev: Studium nerovnovážného difúzního plazmatu generovaného ve vodních parách za atmosférického tlaku optickými a laserovými metodami (Akronym: LIFOH)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium nerovnovážného difúzního plazmatu generovaného ve vodních parách za atmosférického tlaku optickými a laserovými metodami
VytisknoutZobrazeno: 26. 7. 2024 00:23