J 2016

Tetrakis(trimethylsilyloxy)silane for nanostructured SiO2-like films deposited by PECVD at atmospheric pressure

SCHÄFER, Jan, Jaroslav HNILICA, Jiří ŠPERKA, Antje QUADE, Vít KUDRLE et. al.

Základní údaje

Originální název

Tetrakis(trimethylsilyloxy)silane for nanostructured SiO2-like films deposited by PECVD at atmospheric pressure

Autoři

SCHÄFER, Jan (203 Česká republika), Jaroslav HNILICA (203 Česká republika, domácí), Jiří ŠPERKA (203 Česká republika, domácí), Antje QUADE (276 Německo), Vít KUDRLE (203 Česká republika, garant, domácí), Rüdiger FOEST (276 Německo), Jiří VODÁK (203 Česká republika, domácí) a Lenka ZAJÍČKOVÁ (203 Česká republika, domácí)

Vydání

Surface and Coatings Technology, 2016, 0257-8972

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Velká Británie a Severní Irsko

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Impakt faktor

Impact factor: 2.589

Kód RIV

RIV/00216224:14310/16:00087594

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

DOI

UT WoS

000376834700017

Klíčová slova anglicky

Tetrakis(trimethylsilyloxy)silane; Tetrakis(trimethylsiloxy)silane; Plasma jet; Silicon dioxide

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 26. 2. 2019 07:02, doc. Mgr. Jaroslav Hnilica, Ph.D.

Anotace

V originále

We performed the thin films deposition using atmospheric pressure plasma enhanced chemical vapour deposition (AP-PECVD) by means of a radiofrequency and a microwave plasma jets operating with mixtures of argon and tetrakis(trimethylsilyloxy)silane (TTMS).

Návaznosti

ED1.1.00/02.0068, projekt VaV
Název: CEITEC - central european institute of technology
ED2.1.00/03.0086, projekt VaV
Název: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
LO1411, projekt VaV
Název: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
TE02000011, projekt VaV
Název: Centrum výzkumu povrchových úprav (Akronym: povrchovky)
Investor: Technologická agentura ČR, Research center of surface treatment

Přiložené soubory

1-s2.0-S0257897215302851-main.pdf
Vyhledat podobné dokumenty